[实用新型]磁控溅射/微波表面波沉积系统

权利要求书

1.磁控溅射/微波表面波沉积系统，包括一真空腔室，在所述真空腔室的四周设置有若干组磁控溅射阴极，所述真空腔室通过一抽气管道连接一真空泵组并还通过一进气管道连接一流量计组，在所述真空腔室内设置有一工件架，其特征在于，在所述真空腔室的中心设置有一微波表面波石英管/电极组件，所述工件架环绕在所述微波表面波石英管/电极组件的外围。

2.如权利要求1所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述微波表面波石英管/电极组件由一密封的圆形石英管和位于所述密封的圆形石英管内的中心电极以及包覆在所述密封的圆形石英管外围的双通道水冷系统，所述双通道水冷系统在一双通道水冷系统驱动机构驱动下绕所述密封的圆形石英管外围旋转，在保障均匀冷却的同时实现微波的360度均匀发射。

3.如权利要求1所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述真空腔室为圆形真空腔室或方形真空腔室。

4.如权利要求1所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述磁控溅射阴极为2组或4组或6组，均布在所述真空腔室的四周。

5.如权利要求1所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述磁控溅射阴极由直流电源或中频电源或射频电源供电。

6.如权利要求1所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述磁控溅射阴极为矩形平面靶。

7.如权利要求1所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述工件架由可拖动转移的3行星公转系统驱动转动。

8.如权利要求7所述的磁控溅射/微波表面波沉积系统，其特征在于，所述工件架上的热偶计、偏压系统均由接入所述真空腔室内的快接头实现快速连接，所述工件架上的测温探头随工件架360度旋转移动。