[实用新型]一种晶圆键合装置有效
申请号: | 201821207230.5 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN208507635U | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 朱鸷;付辉 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆 载具 定位组件 真空键合 传送机构 键合组件 键合 对准 多片 圆键 种晶 配置 半导体制造技术 本实用新型 键合周期 晶圆键合 可移动 产率 能耗 室外 | ||
1.一种晶圆键合装置,其特征在于,包括:
载具(1),其上设置有若干定位组件(11),所述定位组件(11)被配置为能够对晶圆(12)的外形进行定位;
真空键合室(2),其中设置有若干键合组件,所述键合组件与所述定位组件(11)一一对应,所述键合组件被配置为能够对所述晶圆(12)进行键合;
传送机构(3),其可移动的设置在所述真空键合室(2)外,所述传送机构(3)被配置为能够将所述载具(1)传入或传出所述真空键合室(2)。
2.根据权利要求1所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述定位组件(11)包括标识部(111)和限位部(112),所述标识部(111)的形状与所述晶圆(12)的形状相同,所述限位部(112)设置在所述标识部(111)的轮廓上。
3.根据权利要求2所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述标识部(111)为设置在所述载具(1)表面的凹槽。
4.根据权利要求2所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述载具(1)上设置有容置孔,所述限位部(112)可伸缩的设置在所述容置孔中。
5.根据权利要求4所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述限位部(112)包括切向限位部(1121)和周向限位部(1122),相邻的两个所述切向限位部(1121)间隔设置,相邻的两个所述周向限位部(1122)间隔设置,相邻的所述切向限位部(1121)和所述周向限位部(1122)间隔设置,所述切向限位部(1121)能够限定所述晶圆(12)的切边位置,所述周向限位部(1122)能够限定所述晶圆(12)的圆周位置。
6.根据权利要求5所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述切向限位部(1121)和所述周向限位部(1122)结构相同,均包括限位柱(1121a)和回弹件(1121b),所述限位柱(1121a)的下端连接所述回弹件(1121b),所述限位柱(1121a)的上端能够伸出或缩回所述容置孔,所述晶圆(12)能够与所述限位柱(1121a)的外表面相抵接。
7.根据权利要求6所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述限位柱(1121a)伸出所述容置孔的长度不小于两片所述晶圆(12)的厚度之和。
8.根据权利要求2所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述限位部(112)为凸设在所述载具(1)表面的凸起,所述凸起的高度大于一片所述晶圆(12)的厚度且小于两片所述晶圆(12)的厚度之和。
9.根据权利要求1所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述键合组件包括加压杆(21)、压头(22)和加热盘(23),所述加压杆(21)可伸缩穿设在所述真空键合室(2)的顶部,所述加压杆(21)的下部连接压头(22),所述加热盘(23)固设在所述真空键合室(2)的底部,所述加热盘(23)能够承载所述载具(1),所述加压杆(21)与所述定位组件(11)一一对应。
10.根据权利要求9所述的晶圆键合装置,其特征在于,所述键合组件还包括隔热件(24),所述隔热件(24)设置在所述加压杆(21)与所述压头(22)之间,另一个所述隔热件(24)设置在所述加热盘(23)的底部。
11.根据权利要求1所述的晶圆键合装置,其特征在于,还包括真空系统,所述真空系统设置在所述真空键合室(2)外,所述真空系统能够对所述真空键合室(2)的内部进行抽真空或破真空。
12.根据权利要求1所述的晶圆键合装置,其特征在于,还包括温控系统,所述温控系统设置在所述真空键合室(2)外,所述温控系统能够调控所述真空键合室(2)内所述晶圆(12)的温度。
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