[实用新型]一种半导体可饱和吸收镜结构有效
申请号: | 201821213328.1 | 申请日: | 2018-07-28 |
公开(公告)号: | CN208508231U | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 梁崇智;黎海明;朱海波 | 申请(专利权)人: | 广东华快光子科技有限公司;广东华奕激光技术有限公司 |
主分类号: | H01S3/098 | 分类号: | H01S3/098 |
代理公司: | 中山市科创专利代理有限公司 44211 | 代理人: | 谢自安 |
地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明层 半导体可饱和吸收镜 应变补偿层 量子阱 驻波 可饱和吸收体 本实用新型 激光器寿命 量子阱结构 对称设置 峰值位置 使用寿命 应变补偿 激光器 形变 维护 | ||
1.一种半导体可饱和吸收镜结构,其特征在于包括有n-GaAs衬底,在所述n-GaAs衬底上依次生长有24对布拉格反射镜、8个量子阱的可饱和吸收体,其中,每对布拉格反射镜的厚度为0.25λ,λ是设计波长,每个量子阱的厚度为0.5λ,每对布拉格反射镜包括有依次的GaAs子层和AlGaAs子层,GaAs子层的厚度≤AlGaAs子层的厚度,每个量子阱包括依次的AlGaAsP应变补偿层、GaAlAs透明层、InGaAs层、GaAlAs透明层、InGaAs层、GaAlAs透明层、AlGaAsP应变补偿层,其中,两个AlGaAsP应变补偿层的厚度相等,3个GaAlAs透明层的厚度相等,两个InGaAs层的厚度相等,并且,InGaAs层的厚度≤GaAlAs透明层的厚度≤AlGaAsP应变补偿层的厚度。
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