[实用新型]透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃有效
申请号: | 201821224131.8 | 申请日: | 2018-07-31 |
公开(公告)号: | CN208667499U | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 梁干;唐晶;武瑞军;宋保柱 | 申请(专利权)人: | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;都春燕 |
地址: | 215222 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低辐射 功能层 玻璃基体 复合膜层 介质层 低辐射镀膜玻璃 耐高温阻燃层 本实用新型 保护层 色中性 钢化 双银 低辐射功能膜层 第二保护层 第一保护层 耐高温能力 玻璃产品 镀膜玻璃 厚度参数 膜层结构 辐射率 通透性 朝外 沉积 镀设 膜层 优化 | ||
本实用新型涉及一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层,所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的第一介质层、第一保护层、第一低辐射功能层、第二保护层、第一耐高温阻燃层、第二介质层、第三保护层、第二低辐射功能层、第四保护层、第二耐高温阻燃层、第三介质层,所述第一低辐射功能层和所述第二低辐射功能层均为Ag‑Cu合金层,本实用新型通过优化膜层结构和膜层厚度参数,可以对低辐射功能膜层起到更好的保护作用,提高了复合膜层整体的耐高温能力,使得最终制得的玻璃产品通透性更好,透过色更中性,相对于单银LOW‑E镀膜玻璃具有更低的辐射率和更高的选择系数。
技术领域
本实用新型涉及玻璃生产技术领域,具体涉及一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层,对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用,从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率,此种玻璃既可用于家庭窗户,也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所。
目前低辐射镀膜玻璃及其中空制品具有理想的隔热保温性能以及合理的市场价格,已经在国内外的各类建筑中被广泛采用。可高温热处理的低辐射镀膜玻璃可以进行弯形处理,因此能更好的表达建筑的外形设计理念,另一方面也可以较明显的降低生产加工的成本,因而是市面上较为常见的一类产品。尽管采用可刚化镀膜玻璃的建筑在远距离观察时颜色各异,但在近距离上,都呈现较为明显的、统一的蓝绿或黄绿色(透射光的色度值a*<-5,b*>5),难以彰显其先进感。随着审美角度的不断转变,市场对镀膜产品透过色的需求也变得多样化,显然一种透射光颜色为中性色(的色度值5>a*>-5,5>b*>-5)的可钢化低辐射镀膜玻璃产品是有较强的市场需求。
造成可钢化镀膜产品透过色明显偏绿的原因在于,其所镀的复合纳米膜层需要经受较长时间的高温(以常见的单室钢化炉为例,玻璃温度约670℃,受热时长平均7分钟),因此膜层材料必须采用足够的保护层(如氮化硅层或镍铬层)来对低辐射银层进行保护。这些保护层对绿光有选择性的透过,并进一步的导致市面上常见的可钢化镀膜产品透过色的颜色呈淡绿色,(透过色a*<-5)。为了改变这一现象,镀膜玻璃产品在透过色的实现上一般可以通过选用不同折射率的材料,或/并选取有特殊选择吸收材料来对产品的透过色进行修正。但在以往技术中当引入金属铜或铜合金作为选择性吸收材料的情况下,虽然金属铜或铜合金层其纳米膜层的透过色呈暖色调,能中和现有可钢化双银产品的透过色,但是仍然存在可钢化双银产品在高温钢化过程中抗氧化能力不足的问题,特别是当铜有多个价位(+1和+2)的情况下,少量的氧原子迁移也会引起膜层的高温氧化破坏,且铜吸收较大导致产品透过率偏低。
发明内容
本实用新型提供一种能够解决上述问题的透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层,所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的第一介质层、第一保护层、第一低辐射功能层、第二保护层、第一耐高温阻燃层、第二介质层、第三保护层、第二低辐射功能层、第四保护层、第二耐高温阻燃层、第三介质层,所述第一低辐射功能层和所述第二低辐射功能层均为Ag-Cu合金层,所述第一低辐射功能层的厚度为5-15nm,所述第二低辐射功能层的厚度为8-20nm。
进一步的,所述第一介质层和所述第二介质层为ZnOx层、ZnSnOx层以及SiNx层中的任意一层或任意多层的复合层。
进一步的,所述第一介质层的厚度为13-60nm;所述第二介质层的厚度为45-75nm。
进一步的,所述第三介质层为SiNx层、SiOx层、SiNxOy层以及TiOx层中的任意一层或任意多层的复合层。
进一步的,所述第三介质层的厚度为25-70nm。
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