[实用新型]大规模集中循环冷却系统有效
申请号: | 201821236131.X | 申请日: | 2018-08-01 |
公开(公告)号: | CN208794819U | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 蒋伟;裴广庆;王佳麒 | 申请(专利权)人: | 元亮科技有限公司 |
主分类号: | F25D17/02 | 分类号: | F25D17/02;F25D29/00 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 殷红梅;刘海 |
地址: | 214037 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热交换器 冷冻机 水冷 水泵 冷冻系统 冷却设备 水冷系统 水箱 本实用新型 集中循环 冷却系统 水冷设备 主回路 冷冻 集中冷却 加工设备 冷却需求 热量交换 回水端 | ||
本实用新型涉及一种大规模集中循环冷却系统,其特征是,包括冷冻系统、热交换器和水冷系统,冷冻系统通过热交换器与水冷系统进行热量交换;所述冷冻系统包括冷冻机水泵、冷冻机和多套冷却设备,冷冻机水泵、冷冻机和热交换器形成冷冻主回路,冷冻机与多套冷却设备分别形成多个冷冻分回路;所述水冷系统包括水箱、水冷水泵和多套水冷设备,水箱、水冷水泵和热交换器分别和多套水冷设备形成多个水冷主回路,水箱和水冷水泵位于水冷主回路上热交换器的回水端。本实用新型通过一台冷却设备能实现多套及不同冷却需求的加工设备的集中冷却。
技术领域
本实用新型涉及一种冷却系统,尤其是一种大规模集中循环冷却系统,属于光电子材料加工水冷技术领域。
背景技术
在光电子材料加工过程中,设备的散热是加工工序可靠运行的重要保证,热量积累是设备损坏、材料加工精度和效率低的一个主要因素。因此可靠高效的冷却系统,是保证设备可靠运行,减小设备故障率、维修成本,提高加工精度、加工效率的关键因素。
现有的加工设备冷却系统的配置通常是单台加工设备配单套冷却设备形成一个冷却系统,那么,多台加工设备则需要配备多套冷却设备形成多个冷却系统。例如,在真空镀膜工艺中,冷却系统是镀膜工艺中一个非常重要的环节,真空镀膜在蒸镀时会温度会上升,需求一个恒温的环境才能保证产品不因受热而变形,在真空泵系统也需要冷却水把机组热量带走。目前镀膜机冷却系统的配置是单台镀膜机就需要配备一台冷冻机,造成的问题是设备保养和维护麻烦,多台设备也会造成能耗浪费,人员、设备成本增加。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种大规模集中循环冷却系统,该系统通过一台冷却设备能实现多套及不同冷却需求的加工设备的集中冷却。
按照本实用新型提供的技术方案,一种大规模集中循环冷却系统,其特征是,包括冷冻系统、热交换器和水冷系统,冷冻系统通过热交换器与水冷系统进行热量交换;
所述冷冻系统包括冷冻机水泵、冷冻机和多套冷却设备,冷冻机水泵、冷冻机和热交换器形成冷冻主回路,冷冻机与多套冷却设备分别形成多个冷冻分回路;
所述水冷系统包括水箱、水冷水泵和多套水冷设备,水箱、水冷水泵和热交换器分别和多套水冷设备形成多个水冷主回路,水箱和水冷水泵位于水冷主回路上热交换器的回水端。
进一步地,在所述冷冻系统主回路上热交换器的进水端还设有第一温度传感器和第一压力传感器。
进一步地,在所述水冷主回路上热交换器的进水端设置第二温度传感器和第二压力传感器。
进一步地,在所述水冷系统的水冷主回路进水端和回水端之间还设有温度调节阀和/或压力调节阀。
进一步地,在所述水冷系统的水冷设备的进水端还设有第三温度传感器和第三压力传感器。
进一步地,在所述水冷系统的水冷设备的进水端和回水端之间还设有温度调节阀和/或压力调节阀。
进一步地,还包括远程控制箱,远程控制箱通过有线或无线与第一温度传感器和第一压力传感器连接。
进一步地,还包括远程控制箱,远程控制箱通过有线或无线与第二温度传感器和第二压力传感器连接。
进一步地,还包括远程控制箱,远程控制箱通过有线或无线与温度调节阀和压力调节阀连接。
进一步地,还包括远程控制箱,远程控制箱通过有线或无线与第三温度传感器和第三压力传感器连接。
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