[实用新型]光轴输送平台有效
申请号: | 201821238567.2 | 申请日: | 2018-08-02 |
公开(公告)号: | CN208948156U | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 于涛 | 申请(专利权)人: | 天津天弘精工传动机械科技股份有限公司 |
主分类号: | B65G15/58 | 分类号: | B65G15/58;B65G23/22;B65G65/32 |
代理公司: | 天津英扬昊睿专利代理事务所(普通合伙) 12227 | 代理人: | 卢平 |
地址: | 300000 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光轴 传送带 卡槽 集料 本实用新型 输送平台 掉落 出料 入料 等间距分布 电机带动 方向垂直 工作效率 倾斜设置 重力作用 连贯性 上表面 形变 转动 传送 保证 传输 | ||
光轴输送平台,其特征在于包括传送带、卡槽、入料处、集料处、光轴,所述传送带倾斜设置,倾斜角度为15°到30°,所述传送带右侧位于入料处正下方,所述传送带左侧位于集料处正上方,所述传送带上表面设有卡槽,所述卡槽等间距分布,所述卡槽内放置有光轴,所述传送带与光轴出料方向垂直设置。本实用新型的优点在于:卡槽的间距根据光轴出料的频率进行设置,电机带动传送带转动,使光轴依次掉落至卡槽中,进行被传送带运行带至集料处,由于重力作用,光轴自动掉落至集料处,完成光轴的传送和收集,本实用新型结构简单,保证了连贯性,使其传输的速度得以提升,进而提高了工作效率,卡槽完全承受住光轴重量,保证了光轴不会发生形变。
技术领域
本实用新型涉及一种光轴生产加工设备,尤其涉及一种光轴输送平台。
背景技术
直线光轴是具有滑动轴承的引导作用,可使实行直线运动的产品。这些直线运动系统要求的必需条件是:简单的设计,最好的执行能力,低价的维修费用,使用严格挑选坚固耐用的材料,高频热处理,准确的外径尺寸,真圆度,真直度及表面处理等。直线光轴由圆柱体形状的原料经校直、热处理、打磨等多道工序加工得到,在进行直线光轴加工时,需要将光轴沿平直方向输送到加工机械的不同机头中,并且在加工过程中和加工完成后仍能使光轴沿平直方向运动,以避免光轴发生形变。当光轴自身的长度越长,则越容易因自身所受的重力而发生形变,现有技术中光轴输送时速度较慢,连贯性较差,从而导致效率较低,很难保证光轴不发生形变。
发明内容
根据以上技术问题,本实用新型提供一种光轴输送平台,其特征在于包括传送带、卡槽、入料处、集料处、光轴,所述传送带倾斜设置,倾斜角度为15°到30°,所述传送带右侧位于入料处正下方,所述传送带左侧位于集料处正上方,所述传送带上表面设有卡槽,所述卡槽数量为N个,所述N≥10,所述卡槽等间距分布,所述卡槽内放置有光轴,所述传送带与光轴出料方向垂直设置。
所述卡槽呈V型,V型的卡槽一边固定在传送带上表面,V型卡槽的底部圆滑过渡。
所述集料处内衬设有橡胶。
所述卡槽的长度与光轴长度一致。
本实用新型的有益效果为:本实用新型为光轴输送平台,使用时,加工完毕的光轴从入料处掉落至传送带的卡槽上,卡槽的间距根据光轴出料的频率进行设置,电机带动传送带转动,使光轴依次掉落至卡槽中,进行被传送带运行带至集料处,由于重力作用,光轴自动掉落至集料处,完成光轴的传送和收集,本实用新型结构简单,保证了连贯性,使其传输的速度得以提升,进而提高了工作效率,卡槽完全承受住光轴重量,保证了光轴不会发生形变。
附图说明
图1为本实用新型主体结构图;
如图,传送带-1、卡槽-2、入料处-3、集料处-4、光轴-5。
具体实施方式
下面结合附图所示,对本实用新型进行进一步说明:本实用新型为光轴输送平台,包括传送带1、卡槽2、入料处3、集料处4、光轴5,传送带1倾斜设置,倾斜角度为15°到30°,传送带1右侧位于入料处3正下方,传送带1左侧位于集料处4正上方,集料处4内衬设有橡胶,传送带1上表面设有卡槽2,卡槽2呈V型,V型的卡槽2一边固定在传送带上表面,V型的卡槽2的底部圆滑过渡,卡槽2数量为N个,N≥10,卡槽2等间距分布,卡槽2内放置有光轴5,卡槽2的长度与光轴5长度一致,传送带1与光轴5出料方向垂直设置。
使用时,加工完毕的光轴5从入料处掉落至传送带1的卡槽2上,卡槽2的间距根据光轴5出料的频率进行设置,电机带动传送带1转动,使光轴5依次掉落至卡槽2中,进行被传送带1运行带至集料处4,由于重力作用,光轴5自动掉落至集料处4,完成光轴5的传送和收集,本实用新型结构简单,保证了连贯性,使其传输的速度得以提升,进而提高了工作效率,卡槽2完全承受住光轴5重量,保证了光轴5不会发生形变。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出的是,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进,这些改进也应视为本实用新型的保护范围。
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