[实用新型]泵体、旋转压缩机及制冷设备有效
申请号: | 201821247855.4 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN208605356U | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 李华明;李盖敏 | 申请(专利权)人: | 广东美芝制冷设备有限公司 |
主分类号: | F04C29/00 | 分类号: | F04C29/00;F04C29/02 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
地址: | 528300 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 止推面 曲轴 轴承 副轴承 泵体 旋转压缩机 主轴承 气缸 本实用新型 自润滑涂层 制冷设备 偏心部 轴向 有效地减少 摩擦损失 依次设置 活塞 上端面 下端面 长轴 短轴 相抵 运转 | ||
本实用新型提供了一种泵体、旋转压缩机及制冷设备,泵体包括气缸,气缸内设置有活塞;曲轴,曲轴包括沿轴向依次设置的长轴部、偏心部和短轴部;主轴承及副轴承,主轴承及副轴承沿曲轴的轴向套设在曲轴上,主轴承及副轴承分别位于气缸的两侧;曲轴止推面,曲轴止推面为偏心部的端面;轴承止推面,轴承止推面为主轴承的下端面和/或副轴承的上端面,曲轴止推面与轴承止推面相抵接;曲轴止推面中的至少一个和/或轴承止推面中的至少一个上设置有自润滑涂层。本实用新型提供的泵体,在曲轴止推面中的至少一个和/或轴承止推面中的至少一个上设置有自润滑涂层,能够有效地减少曲轴止推面与轴承止推面之间的摩擦损失,使旋转压缩机的运转更加平稳。
技术领域
本实用新型涉及压缩机设备技术领域,具体而言,涉及一种泵体、一种旋转压缩机和一种制冷设备。
背景技术
随着市场对空调能效等级要求越来越高,空调厂家对压缩机能效提出的要求越来越高。在旋转压缩机中,摩擦功耗占总功耗的8%左右,其中曲轴的止推面与副轴承的法兰端面之间的摩擦损耗占整个摩擦损耗的3~6%,而且由于此摩擦副很难形成动压润滑油膜,所以压缩机的曲轴止推部摩擦副经常发生磨损,甚至失效。
实用新型内容
本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
为此,本实用新型的一个方面在于,提出一种泵体。
本实用新型的另一个方面在于,提出一种旋转压缩机。
本实用新型的又一个方面在于,提出一种制冷设备。
有鉴于此,根据本实用新型的一个方面,提供了一种泵体,用于旋转压缩机,泵体包括:气缸,气缸内设置有活塞;曲轴,曲轴包括沿轴向依次设置的长轴部、偏心部和短轴部;主轴承及副轴承,主轴承及副轴承沿曲轴的轴向套设在曲轴上,主轴承及副轴承分别位于气缸的两侧;曲轴止推面,曲轴止推面为偏心部的端面;轴承止推面,轴承止推面为主轴承的下端面和/或副轴承的上端面,曲轴止推面与轴承止推面相抵接;曲轴止推面中的至少一个和/或轴承止推面中的至少一个上设置有自润滑涂层。
本实用新型提供的泵体包括曲轴、主轴承及副轴承,曲轴包括偏心部,其中,偏心部的上下两个端面为曲轴止推面,主轴承的下端面和/或副轴承的上端面为轴承止推面,曲轴止推面与轴承止推面相抵接,且曲轴止推面与轴承止推面相对滑动,在曲轴止推面中的至少一个和/或轴承止推面中的至少一个上设置有自润滑涂层,由于自润滑涂层具有自润滑作用,能够有效地减少曲轴止推面与轴承止推面之间的摩擦损失,提高了曲轴与主轴承和/或副轴承之间的连接摩擦副的可靠性,降低了旋转压缩机的摩擦功耗,使得旋转压缩机的运转更加平稳。并且,本实用新型提供的泵体改善了相关技术中曲轴与主轴承和/或副轴承之间的连接摩擦副润滑后摩擦功耗偏大的问题,同时也加强了其耐磨性,显著降低了旋转压缩机的摩擦功耗,而且大大改善了旋转压缩机运转时曲轴止推面与主轴承和/或副轴承端面之间的磨损,提高了旋转压缩机运转可靠性。
需要强调的是,为了改善曲轴与主轴承和/或副轴承之间的连接摩擦副的耐磨性,以及减小该处的摩擦系数,达到减小摩擦力、提升性能的目的,压缩机行业的技术人员做了相当多的研究,从结构、材料等方面都做过尝试,但均有各自的缺点。本实用新型从自润滑涂层入手,选择耐磨性好且摩擦系数小的自润滑涂层,在不改变零部件结构和材料的前提下,改善曲轴与主轴承和/或副轴承摩擦副的磨损性能,从而可以有效地延长了旋转压缩机的寿命。
更具体而言,轴承止推面中的至少一个和曲轴止推面中的至少一个设置有自润滑涂层,也就是说,轴承止推面和曲轴止推面之间具有多种布置形式,例如,自润滑涂层仅设置在曲轴止推面中的任一个上,自润滑涂层设置在曲轴止推面中的两个上,又如,自润滑涂层仅设置在轴承止推面中的任一个上,自润滑涂层设置在轴承止推面中的两个上,再如,自润滑涂层可以分别设置在曲轴止推面和轴承止推面,并在两个曲轴止推面和两个轴承止推面之间进行排列组合,此处不再针该方面具体情况作一一列举,但在不脱离本设计构思的前提下均属于本方案的保护范围。
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