[实用新型]量子点彩色滤光片的制作系统及掩模板

说明书

本实用新型公开一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板，包括掩模板基体，所述基体上间隔分布有复数个沉积孔，每一沉积孔与至少一像素坑对应设置，其中至少两个相邻沉积孔之间为遮挡部，所述遮挡部具有凸起结构，凸起结构能够将沉积到遮挡部上的量子点墨水引流至相邻沉积孔内。本实用新型还公开一种量子点彩色滤光片的制作系统，包括雾化模块和掩模板，雾化模块其至少用于对量子点墨水进行雾化处理，并且雾化模块的雾化物输出方向朝向所述掩模板，掩模板掩盖在基板上，基板上分布有复数个像素坑。相较于现有技术，本实用新型利用量子点墨水实现像素化制作，利用量子点墨水雾化沉积，与掩模板配合实现QDCF像素化，像素高达1000PPI。

技术领域

本实用新型涉及量子点发光技术领域，具体的涉及一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板及量子点彩色滤光片的制作系统。

背景技术

QDCF(Quantum Dot Color Filter，量子点彩色滤光片)技术是直接将基准的LCD彩色滤光片(color filter)材料换成QD来表现所需的颜色。这项技术的优势在于量子点的发光位置就在离人眼更近的彩色滤光片上，相对于量子薄膜内的光要通过液晶和彩色滤光片的QDEF方式可展现纯度更高的色彩表现力，因此受到业界的青睐。

目前QDCF的主流制作方式为旋涂光刻，这种方式虽然具有较多优点，但存在量子点浪费严重，后处理麻烦等不足。而喷墨打印方式作为一种节能环保的方式，被业界认为是未来的重要发展方向之一，然而这种技术也存在明显的技术难点，比如重复精度、对位精度难以控制等，这也造成现有的喷墨打印像素较低，无法满足实际应用的需求。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板及量子点彩色滤光片的制作系统，以克服现有技术中的不足。

为实现前述实用新型目的，本实用新型采用的技术方案包括：

本实用新型实施例提供了一种应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板，包括掩模板基体，所述基体上间隔分布有复数个沉积孔，每一沉积孔与至少一像素坑对应设置，其中至少两个相邻沉积孔之间为遮挡部，所述遮挡部具有凸起结构，所述凸起结构能够将沉积到遮挡部上的量子点墨水引流至相邻沉积孔内。

本实用新型实施例还提供一种量子点彩色滤光片的制作系统。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果包括：

1)本实用新型实施例提供的应用于制备量子点彩色滤光片的掩模板，间隔分布有复数个沉积孔，每一沉积孔与至少一像素坑对应设置，其中至少两个相邻沉积孔之间为遮挡部，遮挡部具有凸起结构，凸起结构能够将沉积到遮挡部上的量子点墨水引流至QDCF中对应的像素坑中，实现在像素中均匀成膜。

2)本实用新型实施例提供的量子点彩色滤光片的制作系统，利用量子点墨水实现其像素化制作，利用量子点墨水雾化沉积的方式，与所述掩模板相配合来实现QDCF像素化，像素可高达1000PPI。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一实施例中量子点墨水通过喷嘴雾化实现QDCF像素化的示意图；

图2是本实用新型一实施例中量子点墨水通过超声雾化实现QDCF像素化的示意图；

图3是本实用新型一实施例中掩模板的正视结构图；

图4是本实用新型一实施例中掩模板的俯视结构图；

图5是本实用新型一实施例中掩模板的侧视结构图。