[实用新型]用于检测水平的系统有效
申请号: | 201821287499.9 | 申请日: | 2018-08-10 |
公开(公告)号: | CN208635882U | 公开(公告)日: | 2019-03-22 |
发明(设计)人: | 太田垣贵康;石川和义 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | G01F23/26 | 分类号: | G01F23/26;G01C9/20 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 王琳;姚开丽 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 驱动电极 输入电极 电极 检测 本实用新型 基底 容性 电路 有效电容 灵敏度 延伸 申请 | ||
1.一种用于检测水平的系统,其特征在于,包括:
具有输入电极和驱动电极的基底;
具有电极的容器,所述电极的至少一部分沿着所述容器的高度尺寸延伸,其中所述容器被布置成与所述基底相邻,使得所述电极被电容耦接到所述输入电极或所述驱动电极;以及
电路,在所述电极被容性耦接到所述输入电极或所述驱动电极时,所述电路基于所述输入电极和所述驱动电极之间的有效电容来确定所述容器内物质的水平。
2.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述容器和所述基底被电介质分开。
3.根据权利要求2所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述电介质包括:覆盖所述输入电极和所述驱动电极的保护层或者分开所述容器和所述基底的间隙中的空气。
4.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述容器被布置成与所述基底相邻以将所述电极容性耦接到所述输入电极。
5.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,
所述容器还具有第二电极,所述第二电极的至少一部分沿着所述容器的高度尺寸延伸;并且
所述容器被布置成与所述基底相邻以将所述电极容性耦接到所述输入电极,并且将所述第二电极容性耦接到所述驱动电极。
6.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述容器内的所述物质包括流体、凝胶或粉末。
7.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述基底包括印刷电路板、金属板、碳板或氧化铟锡板。
8.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述电极位于所述容器内。
9.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述电极的至少一部分沿着所述容器的内表面延伸。
10.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述电极的至少一部分沿着所述容器的外表面延伸。
11.根据权利要求1所述的用于检测水平的系统,其特征在于,所述电极的至少一部分从所述容器的底部延伸到至少靠近所述容器的顶部。
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