[实用新型]一种新型的液刀系统及蚀刻设备有效
申请号: | 201821299200.1 | 申请日: | 2018-08-13 |
公开(公告)号: | CN208898996U | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 刘威;崔子龙;俎阿敏;吴德生 | 申请(专利权)人: | 信利光电股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/02 | 分类号: | C23F1/02;C23F1/08 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 邓义华;廖苑滨 |
地址: | 516600 广东省汕*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 副液 喷口 主液 喷出 本实用新型 喷射方向 蚀刻设备 向下倾斜 蚀刻液 液刀 液滴 液帘 传送方向 缓冲效果 角度布置 角度设置 飞溅 落下 喷淋 种液 吸收 | ||
1.一种新型的液刀系统,其特征在于,包括主液刀及副液刀;主液刀包括第一喷口,副液刀包括第二喷口;所述第一喷口与基板呈向下倾斜角度设置,第二喷口与基板呈垂直方向角度布置;在相对于基板的传送方向上,第二喷口的液体出口方向与基板的交点位于第一喷口液体出口方向与基板的交点的后方。
2.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,所述副液刀第二喷口距离基板的距离小于主液刀第一喷口距离基板的距离。
3.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,在相对于基板的传送方向上,副液刀位于主液刀的后方。
4.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,所述副液刀第二喷口处的液体压力小于主液刀第一喷口处的液体压力。
5.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,所述液刀系统还包括与主液刀连接的第一液体传输管道,与副液刀连接的第二液体传输管道。
6.根据权利要求5所述的液刀系统,其特征在于,所述第二液体传输管道上还设置有副液刀液体压力控制装置。
7.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,所述液刀系统还包括副液刀位置调整装置。
8.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,所述主液刀第一喷口距离基板的距离为10-30cm,副液刀第二喷口距离基板的距离为2-5cm。
9.根据权利要求1所述的液刀系统,其特征在于,所述主液刀第一喷口与副液刀第二喷口在水平方向的距离为1-4cm。
10.一种蚀刻设备,其特征在于,包括基板传送装置、位于传送装置上方的喷淋装置,以及权利要求1~9任一项所述的液刀系统;所述液刀系统的主液刀和副液刀位于蚀刻设备的入口方向。
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