[实用新型]基板研磨装置

权利要求书

1.一种基板研磨装置，其包括，

基板支撑单元，其支撑基板；以及

研磨单元，其研磨所述基板，

在所述基板的研磨过程中，所述基板支撑单元或研磨单元进行移动，以便使得所述基板的研磨部位发生变化。

2.根据权利要求1所述的基板研磨装置，

所述基板的研磨部位形成轨迹的同时发生变化。

3.根据权利要求2所述的基板研磨装置，

所述轨迹形成为覆盖所述基板的被研磨面的全部。

4.根据权利要求2所述的基板研磨装置，

所述轨迹形成为在基板的研磨过程中产生重叠的研磨部位。

5.根据权利要求2所述的基板研磨装置，

所述研磨单元包括：

研磨头，其相对于所述基板的面进行旋转；

研磨垫，其设置于所述研磨头，与所述基板接触的同时研磨所述基板，

所述研磨头在与所述基板面平行的平面上进行线性移动。

6.根据权利要求5所述的基板研磨装置，

所述研磨头位于与所述基板面平行的平面上，能够沿着相互垂直的第一方向及第二方向并进移动。

7.根据权利要求2所述的基板研磨装置，

所述基板支撑单元包括：

基板载体，其支撑所述基板；以及

基板安置部，其形成于所述基板载体，用于安置所述基板，

所述基板载体以支撑所述基板的状态进行水平移动，以便使得相对于所述研磨单元的所述基板的位置发生变化。

8.根据权利要求7所述的基板研磨装置，

所述基板支撑单元还包括：

膜，其以与所述基板的非研磨面接触的形式设置于所述基板安置部；以及

保持器部，其以围绕被安置的所述基板的周围的形式配置于所述基板载体。

9.根据权利要求2所述的基板研磨装置，

所述基板支撑单元包括：

多个滚轴；以及

移送带，其以形成闭回路的形式缠绕于所述多个滚轴，且支撑所述基板，

所述移送带以支撑所述基板的状态进行旋转操作，以便使得相对于所述研磨单元的所述基板的位置发生变化。

10.根据权利要求9所述的基板研磨装置，

所述基板支撑单元还包括：

空气轴承，其配置于所述移送带的内侧，向所述基板方向喷射流体。

11.一种基板研磨装置，其包括：

基板支撑单元，其以支撑基板的状态进行水平移动；以及

研磨单元，其在与所述基板的面平行的平面上进行移动，同时研磨所述基板，

所述基板支撑单元及所述研磨单元以使得所述基板的研磨部位沿着设定的轨迹变化的形式进行移动。

12.根据权利要求11所述的基板研磨装置，

所述研磨单元包括：

多个研磨垫，其用于研磨所述基板的被研磨面，

被所述各个研磨垫研磨的基板的研磨部位沿着相互不同的轨迹发生变化。

13.根据权利要求11所述的基板研磨装置，

所述研磨单元包括：

多个研磨垫，其沿着所述设定的轨迹移动，

所述多个研磨垫以具有时间间隔的形式依次进行移动。

14.根据权利要求13所述的基板研磨装置，

所述多个研磨垫具有相互不同的面积。