[实用新型]一种高温真空炉

说明书

本实用新型公开了一种高温真空炉，包括支撑座、第一支架、基体、第三支架和控制面板，所述支撑座顶端的一侧固定有第一支架，第一支架的上方安装有基体，所述第一支架一侧的支撑座顶端固定有第二支架，第二支架的顶端设有壳体，所述壳体的内部铰接有上料机，所述壳体远离基体的一端安装有第三支架，第三支架远离基体一侧的中心位置处固定有电机，所述电机的输出端通过联轴器安装有转轴，所述壳体远离输入导管的一侧安装有输出导管，所述基体远离壳体一侧的中心位置处固定有控制面板。本实用新型不仅提高了高温真空炉的工作效率，实现了高温真空炉使用时的安全性，而且延长了的高温真空炉的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及短真空炉技术领域，具体为一种高温真空炉。

背景技术

真空炉，即在炉腔这一特定空间内利用真空系统(由真空泵、真空测量装置、真空阀门等元件经过精心组装而成)将炉腔内部分物质排出，使炉腔内压强小于一个标准大气压，炉腔内空间从而实现真空状态，这就是真空炉，真空环境中进行加热的设备，在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接，炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热，最高温度可达3000℃左右，主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等，由于其不具有自动上料的功能，使得工作效率大大的降低，不具有的监测功能，使得高温真空炉使用时安全性得不到保障，而其不具有的便于清洁的效果，使的高温真空炉的使用寿命减少，给使用者带来了极大的不便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高温真空炉，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种高温真空炉，包括支撑座、第一支架、基体、第三支架和控制面板，所述支撑座顶端的一侧固定有第一支架，第一支架的上方安装有基体，所述第一支架一侧的支撑座顶端固定有第二支架，第二支架的顶端设有壳体，且壳体的顶端与基体的一侧相连通，所述壳体的内部铰接有上料机，所述壳体远离基体的一端安装有第三支架，第三支架远离基体一侧的中心位置处固定有电机，所述电机的输出端通过联轴器安装有转轴，且转轴远离电机的一端贯穿壳体并与上料机的底端固定连接，所述壳体远离第二支架的一端固定有底托，底托的顶端安装有电磁阀，所述壳体远离输入导管的一侧安装有输出导管，所述基体远离壳体一端的外侧壁上固定有伸缩壳，伸缩壳的一端设有伸缩挡板，所述伸缩壳一侧的基体表面安装有固定框，且固定框与伸缩挡板相互配合，所述基体远离壳体一侧的中心位置处固定有控制面板，且控制面板内部单片机的输出端与底托的输入端、电机的输入端电性连接。

优选的，所述基体底端的拐角位置处皆固定有支脚，且支脚远离基体的一端与第一支架的顶端固定连接。

优选的，所述基体的内侧壁上固定有温度监测仪，且温度监测仪的输出端与控制面板内部单片机的输入端电性连接。

优选的，所述底托一侧的壳体表面固定有输入导管，且输入导管远离壳体的一端与电磁阀的输出端固定连接。

优选的，所述输出导管远离壳体的一端固定有水阀。

优选的，所述控制面板两侧的基体表面皆安装有报警器，且报警器的输入端与控制面板内部单片机的输出端电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该高温真空炉通过在第二支架的顶端设壳体，壳体的内部铰接上料机，第三支架远离基体一侧的中心位置处固定电机，电机的输出端通过联轴器安装转轴，实现了高温真空炉自动上料的功能，从而提高了高温真空炉的工作效率，通过在基体的内侧壁上固定温度监测仪，控制面板两侧的基体表面安装报警器，实现了高温真空炉温度检测的效果，从而实现了高温真空炉使用时的安全性，同时通过在壳体远离第二支架的一端固定底托，底托的顶端安装电磁阀，底托一侧的壳体表面固定输入导管，壳体远离输入导管的一侧安装输出导管，实现了高温真空炉便于清洁的功能，从而延长了的高温真空炉的使用寿命，本实用新型不仅提高了高温真空炉的工作效率，实现了高温真空炉使用时的安全性，而且延长了的高温真空炉的使用寿命。