[实用新型]一种用于单晶硅片清洗的清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种用于单晶硅片清洗的清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽内设有清洗支架，清洗支架包括筒体，筒体表面开有数个均匀分布的小通孔，筒体的内部设有数个隔板，等距分布，隔板之间设有间隙，隔板整体呈环形，筒体的两端设有端盖，端盖设于筒体内部，筒体两端的端盖的外侧中心均固连一个主轴，主轴通过轴承与清洗槽连接，其中筒体左侧的主轴上还设有从动齿轮，从动齿轮与主动齿轮啮合，主动齿轮安装于电机的输出轴上；筒体的下方设有水管；该用于单晶硅片清洗的清洗装置利用筒体装载单晶硅片，不会发生重叠，同时在冲洗时能够利用主轴带动筒体转动使冲洗更加均匀，大大提高清洗效率，值得大力推广。

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片加工技术领域，尤其是一种用于单晶硅片清洗的清洗装置。

背景技术

单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。

单晶硅可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造，其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。

单晶硅片是制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等的主要材料，在硅片加工过程中，单晶硅片易附着颗粒、有机物、金属或是吸附杂质分子，需要对其进行清洗，现有的清洗装置均是将单晶硅片放入水槽中冲洗，效率较低。

实用新型内容

本实用新型旨在提供一种效率高的用于单晶硅片清洗的清洗装置。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于单晶硅片清洗的清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽内设有清洗支架，清洗支架包括筒体，筒体表面开有数个均匀分布的小通孔，筒体的内部设有数个隔板，等距分布，隔板之间设有间隙，隔板整体呈环形，筒体的两端设有端盖，端盖设于筒体内部，筒体两端的端盖的外侧中心均固连一个主轴，主轴通过轴承与清洗槽连接，其中筒体左侧的主轴上还设有从动齿轮，从动齿轮与主动齿轮啮合，主动齿轮安装于电机的输出轴上；筒体分为上下对称设置的两部分，其中下半部分筒体与端盖固连，上半部分筒体通过螺丝与端盖连接；筒体的下方设有水管，水管的顶部设有数个喷水头。

作为本实用新型的进一步方案：所述隔板之间的间隙大于单晶硅片的厚度。

作为本实用新型的进一步方案：所述水管的一端堵塞，另一端通过管道和水泵连接到清洗液贮槽。

作为本实用新型的进一步方案：所述清洗槽的底部设有排水口。

作为本实用新型的进一步方案：所述筒体的内径大于单晶硅片的直径。

作为本实用新型的进一步方案：所述清洗槽的顶部设有顶盖。

作为本实用新型的进一步方案：所述筒体的上方同样设有一个水管，该水管的底部设有数个喷水头，对准筒体的顶部。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该用于单晶硅片清洗的清洗装置利用筒体装载单晶硅片，不会发生重叠，同时在冲洗时能够利用主轴带动筒体转动使冲洗更加均匀，并且旋转产生的离心作用能够使冲入筒体内的污水迅速排出，大大提高清洗效率。

附图说明

图1为实施例一中本实用新型的结构示意图；

图2为实施例一中本实用新型的筒体的横截面结构图；

图3为实施例二中本实用新型的结构示意图。

具体实施方式