[实用新型]等离子表面处理装置有效

专利信息
申请号: 201821366313.9 申请日: 2018-08-23
公开(公告)号: CN209250932U 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 陈钟辉 申请(专利权)人: 广州视源电子科技股份有限公司;广州视睿电子科技有限公司
主分类号: H05H1/48 分类号: H05H1/48
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐利
地址: 510530 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 电离腔 气道 电离 等离子表面处理装置 壳体 喷嘴 等离子 传输部 电离气体 本实用新型 待处理表面 并列设置 处理效率 物体表面 变宽 喷出 喷射 并列 移动
【权利要求书】:

1.一种等离子表面处理装置,其特征在于,包括:

壳体,形成有电离腔;

电离件,设置于所述电离腔内;及

喷嘴,包括传输部,所述传输部连接于所述壳体上,所述传输部上形成有多条并列设置的气道,所述气道与所述电离腔相连通;向远离所述电离腔的方向,至少一条所述气道沿并列方向的尺寸趋于增大。

2.根据权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,向远离所述电离腔的方向,至少一条所述气道沿垂直于并列方向的尺寸趋于减小。

3.根据权利要求1所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述传输部内形成有传输腔,所述传输腔内间隔设置有多块隔板,所述多块隔板将所述传输腔分隔为多条所述气道。

4.根据权利要求3所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述隔板为金属耐高温板。

5.根据权利要求1-4任一项所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述喷嘴还包括喷射部,所述喷射部通过所述传输部连接于所述壳体,所述喷射部上开设有喷孔,所述喷孔为条形孔,多条所述气道与所述喷孔相连通。

6.根据权利要求5所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述喷孔的深度为3mm-5mm。

7.根据权利要求5所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述喷孔的深度随着所述气道数量的增加而降低。

8.根据权利要求1-4任一项所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述电离腔为圆柱形腔体。

9.根据权利要求8所述的等离子表面处理装置,其特征在于,还包括连接件,所述连接件上形成有过渡腔,所述连接件一端开口的尺寸与所述电离腔朝向所述气道的尺寸相匹配,所述连接件另一端开口的尺寸与所述气道朝向所述电离腔的尺寸相匹配,所述气道通过所述过渡腔与所述电离腔相连通。

10.根据权利要求8所述的等离子表面处理装置,其特征在于,所述电离件朝向喷嘴的一端为尖端。

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