[实用新型]一种超纯化学品供应系统有效
申请号: | 201821370236.4 | 申请日: | 2018-08-24 |
公开(公告)号: | CN209052394U | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 田素利 | 申请(专利权)人: | 江苏晶睿光电科技有限公司 |
主分类号: | B67D7/02 | 分类号: | B67D7/02;B67D7/76;B67D7/70 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 高利利 |
地址: | 226500 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 本实用新型 超纯化学品 高纯化学品 出料装置 供应系统 出料管 过滤器 并联设置 排气装置 稳定供应 超纯水 抽料泵 分离罐 供应箱 进水管 可移动 贮存罐 连通 保证 | ||
本实用新型涉及一种超纯化学品供应系统,包括一可移动的供应箱,所述供应箱内设置有贮存罐、抽料泵、分离罐、过滤器、排气装置和出料装置,所述出料装置包括至少两个并联设置的出料管,且所述其中至少一出料管上还连通超纯水进水管。本实用新型的优点在于:本实用新型能够同时供应不同纯度的高纯化学品且保证高纯化学品的连续稳定供应。
技术领域
本实用新型涉及半导体行业中高纯化学品的输送,特别涉及一种超纯化学品供应系统。
背景技术
在半导体制造工业中,尤其是硅晶片在制造过程中每个阶段的主要担忧之一是污染物。引入到制造过程中的污染物可能大大改变最终产品特性。因此,为了去除污染,可能会停止和关闭生产线。这会导致:首先,显著量的已经制造的电子设备的不合格,以及其次,它可能会使生产陷于一段时间的停顿。这两种情况都会转为电子设备生产工厂收入的大量损失。高纯化学品(如 :二乙基锌 DEZ、三甲基铝 TMA 等)已经广泛地应用于电子器件制造,这就是为什么从电子设备生产过程中的每个初始步骤解决生产线污染问题是重要的。
许多公开出版物涉及化学品和特种气体的现场纯化设备以及供应。例如,目前高纯化学品的输送装置或系统包括贮存罐、填充缓冲罐和压送系统,所述压送系统多采用高纯惰性气体压送,先通过一路惰性气体将高纯化学品压送从贮存罐压送至填充缓冲罐,该路惰性气体管道上设有过滤器和若干单向阀,再由另一路惰性气体将填充缓冲罐内的高纯化学品压送到几十米至上百米之外的使用机台。但是该种输送装置或系统由于一些化学产品在室温状态下有自分解的化学特性,其产生的分解颗粒物会使过滤器出现不同程度的堵塞,而且随着过滤器使用时间的延长和使用期间的高温环境,高纯化学品由于自分解作用而产生的颗粒物对过滤器的堵塞会愈发严重,这会导致填充的速度变慢、填充时间间隔延长等问题,严重时会导致无法将缓冲罐内的化学品推送到远处的使用机台,导致供应中断现象出现。
针对上述现象,专利CN 104989952 A公开了一种高纯化学品连续稳定输送系统,包括贮存罐、缓冲罐和推送系统,所述推送系统包括第一推送系统和第二推送系统,所述第一推送系统和第二推送系统均与输送总管连通, 所述第一推送系统用于将贮存罐内的高纯化学品推送至缓冲罐内,此为填充过程 ;所述第二推送系统用于将缓冲罐内的高纯化学品推送至使用机台,第一推送系统和第二推送系统上分别独立设 置有第一调压阀和第二调压阀,所述第二推送系统上还设有压力传感器和压力监测计;该发明高纯化学品连续稳定输送系统结构布置合理,成本低,且有效实现了缓冲罐内的填充压力与供应压力的独立稳定可调,有效保证了高纯化学品的连续稳定供应,但是该输送系统不能同时满足不同纯度要求的化学品同时供应。
因此,研发一种能够同时供应不同纯度的高纯化学品且保证高纯化学品的连续稳定供应的超纯化学品供应系统是非常有必要的。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够同时供应不同纯度的高纯化学品且保证高纯化学品的连续稳定供应的超纯化学品供应系统。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:一种超纯化学品供应系统,其创新点在于:包括一可移动的供应箱,所述供应箱内设置有贮存罐、抽料泵、分离罐、过滤器、排气装置和出料装置;
所述贮存罐的顶端设置有一与贮存罐连通的N2进气管,所述贮存罐的顶端还设置有与分离罐连通设置的管道A,且所述抽料泵串联设置在管道A上;所述分离罐的顶端分别设有与分离罐连通的料液出口和气体出口,所述分离罐的料液出口与出料装置之间通过管道B连通,且所述过滤器串联设置在管道B上;所述过滤器至少为两个,且各过滤器并联设置,在靠近分离罐的管道B上通过管道C连通用于控制过滤器的压力控制阀A,在靠近出料装置的管道B还连通管道D,所述管道D的另一端与贮存罐连通设置,且管道D上还串联设置有压力控制阀B;
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