[实用新型]一种辐射制冷薄膜

说明书

本实用新型公开了一种辐射制冷薄膜，包括基膜、反射层以及硬化层，所述硬化层包括上硬化层和下硬化层，所述上硬化层设于基膜的上表面，所述反射层设于基膜的下表面，所述下硬化层设于反射层下表面；其中，所述基膜包括高分子聚合物、微米球体和抗静电剂，所述高分子聚合物为PET、PBT、TPX、PC、PE、PP、PVC、PMMA、PS中的一种，所述微米球体为质量比为3：1的非金属氧化物和金属氧化物，所述高分子聚合物、微米球体与抗静电剂的质量比为75～98:1～20:1～5。本实用新型在基膜上表面设置上硬化层，在基膜下表面设置反射层，在反射层下表面设置下硬化层，硬化层保护基膜和反射层，反射层用于反射阳光，结构简单，辐射制冷效果好，耐老化性能好。

技术领域

本实用新型涉及辐射制冷材料领域，尤其涉及的是一种辐射制冷薄膜。

背景技术

现有技术中，辐射制冷材料的生产方法较复杂，造成成本较高，同时，辐射制冷材料一般设于其他结构的外表面，需要一定的耐老化性，现有的辐射制冷材料耐老化性能较差，应用范围较窄。

因此，现有技术存在缺陷，需要改进。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种制备方法简单、成本低、耐老化效果好的辐射制冷薄膜。

本实用新型的技术方案如下：一种辐射制冷薄膜，包括基膜、反射层以及硬化层，所述硬化层包括上硬化层和下硬化层，所述上硬化层设于基膜的上表面，所述反射层设于基膜的下表面，所述下硬化层设于反射层下表面；其中，所述基膜包括高分子聚合物、微米球体和抗静电剂，所述高分子聚合物为PET、PBT、TPX、PC、PE、PP、PVC、PMMA、PS中的一种，所述微米球体为质量比为3：1的非金属氧化物和金属氧化物，非金属氧化物为SiO₂、SiC、SiS₂中的一种，金属氧化物为TiO₂、BaSO₄、CaCO₃中的一种，所述抗静电剂为纳米级氧化铟锡或乙氧基化脂肪族烷基胺类抗静电剂中的一种，所述高分子聚合物、微米球体与抗静电剂的质量比为75～98:1～20:1～5。

采用上述技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述反射层由金、银、铝、铬中的一种或多种的组合制成。

采用上述技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述反射层为金属材料与陶瓷材料的结合，所述反射层由金属材料金、银、铝、铬、钛中的一种或几种与陶瓷材料Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、Nb₂O₃、HfO₂中的一种或几种结合制成。

采用上述各个技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述上硬化层包括第一高分子树脂、紫外线吸收剂和纳米SiO₂混合均匀，所述下硬化层包括第二高分子树脂，所述第一高分子树脂和第二高分子树脂都为PET、PBT、TPX、PC、PE、PP、PVC、PMMA、PS中的任意一种。

采用上述各个技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述基膜的厚度为40～100μm。

采用上述各个技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述反射层的厚度为20～250nm。

采用上述各个技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述硬化层的厚度为1～20μm。

采用上述各个技术方案，所述的辐射制冷薄膜中，所述微米球体的粒径为1～15μm。

一种制备上述各个辐射制冷薄膜的方法，制备步骤为：