[实用新型]一种抛光液盛载流通槽

说明书

本实用新型涉及一种抛光液盛载流通槽，其包括本体。本实用新型中的本体的上方设开口，本体的侧壁板及下底板形成抛光液的盛载空间；工件位于该盛载空间时，所述侧壁板的高度始终高于工件的高度；侧壁板和/或下底板上开设抛光液进入孔，侧壁板和/或下底板上开设抛光液流出孔。以上结构中，抛光液通过抛光液进入孔进入本体形成的盛载空间，在抛光头对本体中的工件进行抛光时，工件始终浸没在抛光液中被颗粒状抛光剂作用，打开抛光液进入孔与抛光液流出孔，本体中的抛光液不断流通更新，控制流速使流出本体的抛光液的流量不大于流入本体的抛光液的流量，工件始终浸没在抛光液中，抛光液的利用效率提高。

技术领域

本实用新型涉及抛光设备领域，尤其涉及一种抛光液盛载流通槽。

背景技术

现有的抛光工艺中，多是在抛光头对工件进行抛光时，辅之以抛光液对工件进行冲淋，此处抛光液是一种颗粒状抛光剂的溶液，可对抛光效果进行优化，使工件表面高度光洁且亮度均匀。在抛光液冲淋工件的过程中，颗粒状抛光剂与工件的接触时间短，对工件的作用有限，该抛光工艺中颗粒状抛光剂的利用效率不高。

因此，为延长抛光液中抛光剂与工件的接触时长，有必要设计一种抛光液的承载容器，使工件在被抛光头抛光的过程中，始终浸没在该承载容器的抛光液中，使抛光剂对工件充分作用，且抛光液在此过程中处于流通更新的状态。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题，在于提供一种抛光液盛载流通槽，利用本实用新型的装置，可以在抛光头对工件进行抛光的过程中，工件始终浸没在抛光液中，抛光剂对工件进行充分作用，且抛光液在此过程中处于流通更新的状态。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是：

一种抛光液盛载流通槽，包括：本体，所述本体的上方设开口，所述本体的侧壁板及下底板形成抛光液的盛载空间；工件位于所述盛载空间时，所述侧壁板的高度始终高于工件的高度；所述侧壁板和/或所述下底板上开设抛光液进入孔，所述侧壁板和/或所述下底板上开设抛光液流出孔。

在一种优选的实施方式中，所述下底板包括平底板与过渡板，所述平底板与所述侧壁板之间通过所述过渡板连接。

在一种优选的实施方式中，所述过渡板包括相互连接的倾斜段与平直段，所述倾斜段与所述平底板连接，所述平直段与所述侧壁板连接，所述倾斜段向远离所述平底板中心的上方倾斜。

在一种优选的实施方式中，所述平直段包括第一平直段与第二平直段，所述第一平直段与所述第二平直段的连接处设竖向挡板，所述第一平直段与所述倾斜段连接，所述第二平直段与所述侧壁板连接。

在一种优选的实施方式中，所述竖向挡板的顶部设通孔。

在一种优选的实施方式中，所述下底板为矩形，其四边各连接一所述侧壁板，所述侧壁板向远离所述下底板中心的方向倾斜。

在一种优选的实施方式中，所述下底板的一组相对的边的方向上，从中间的所述平底板向两边，依次分布所述过渡板的倾斜段、所述平直段的第一平直段、所述平直段的第二平直段及所述侧壁板。

在一种优选的实施方式中，所述平底板的中间位置向下凹陷形成凹槽；若干所述抛光液进入孔设置在所述凹槽的一组相对的侧壁上，若干所述抛光液流出孔设置在所述第一平直段与所述第二平直段上。

在一种优选的实施方式中，所述第一平直段与所述第二平直段的中间为下凹平板，所述下凹平板的两端与另外两所述侧壁板之间为斜坡板，所述抛光液流出孔设置在所述下凹平板上。

在一种优选的实施方式中，所述抛光液进入孔与所述抛光液流出孔上分别设开关阀。

本实用新型的有益效果是：