[实用新型]一种能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层有效
| 申请号： | 201821385493.5 | 申请日： | 2018-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN208689197U | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 欧仕明;欧旭良;石矿 | 申请（专利权）人： | 宜兴市晶科光学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 李德溅 |
| 地址： | 214211 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 膜层 复制基板 光栅母板 衍射效率 硅油膜 铝膜 一级衍射效率 本实用新型 三氧化二铝 氟化镁膜 平面光栅 覆盖 复制 厚膜 三氧化二铝薄膜 平面衍射光栅 波长 闪耀 | ||
【权利要求书】：
1.一种能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层，包括夹在光栅母板（1）和复制基板（7）之间的硅油膜（2）和铝膜（5），其特征在于：所述的硅油膜（2）上覆盖有三氧化二铝厚膜（3），所述的三氧化二铝厚膜（3）上覆盖有氟化镁膜（4），所述的氟化镁膜（4）上覆盖有铝膜（5），所述的铝膜（5）上覆盖三氧化二铝薄膜（6）。
2.根据权利要求1所述的能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层，其特征在于：所述硅油膜的厚度为6nm～9nm，所述三氧化二铝厚膜的厚度为12nm～14nm，所述氟化镁膜的厚度为15nm～20nm，所述铝膜的厚度为80nm～100nm，所述三氧化二铝薄膜的厚度为5nm～7nm。
3.根据权利要求1或2所述的能够提高复制平面光栅衍射效率的膜层，其特征在于：所述的膜层能够使得复制平面光栅在闪耀波长250nm处的一级衍射效率＞70%。
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