[实用新型]一种电路板蚀刻积液的吸液组件

说明书

本实用新型公开了一种电路板蚀刻积液的吸液组件，包括由上至下依次设置的吸液管、顶罩和吸液筒，顶罩底部开槽形成中转腔室，吸液管连通中转腔室，吸液筒的外侧壁与顶罩底部槽内侧壁密封配合，吸液筒的底部开设有吸液孔，吸液筒的顶部开设有连通中转腔室的第三排液孔。本实用新型的一种电路板蚀刻积液的吸液组件，通过吸液管的真空吸力来吸除电路板上的残留蚀刻废液，使得蚀刻废液不会影响后续的蚀刻加工，提升蚀刻精度。

技术领域

本实用新型涉及电路板加工领域，尤其涉及一种电路板蚀刻积液的吸液组件。

背景技术

蚀刻工艺是电路板加工过程中的主要一环，其作用是利用化学反应法将非线路部位的铜层腐蚀处理，电路板上需要蚀刻处理的位置通常有多处，同一位置有时也需要多次蚀刻处理，前一次蚀刻后的腐蚀液由于其流动性较差而难以迅速排掉，该蚀刻位置会有腐蚀液残留，残留液其功效下降且可能附着在后一蚀刻处理的位置，使得下一次蚀刻的腐蚀液难以有效与待处理位置有效接触，影响电路板的加工效果。

实用新型内容

本实用新型旨在解决上述所提及的技术问题，提供一种电路板蚀刻积液的吸液组件，其能够有效提升蚀刻精度。

本实用新型是通过以下的技术方案实现的：

一种电路板蚀刻积液的吸液组件，包括由上至下依次设置的吸液管、顶罩和吸液筒，顶罩底部开槽形成中转腔室，吸液管连通中转腔室，吸液筒的外侧壁与顶罩底部槽内侧壁密封配合，吸液筒的底部开设有吸液孔，吸液筒的顶部开设有连通中转腔室的第三排液孔。

优选的，吸液管在顶罩的顶部连通中转腔室。

优选的，顶罩和中转腔室之间经焊接方式密封连接。

优选的，吸液筒的底部沿其长度方向开设有相互平行的至少两排吸液孔。

优选的，吸液孔呈沿吸液筒长度方向延伸的长条形。

优选的，吸液筒的顶部沿其长度方向开设有至少一排第三排液孔。

优选的，第三排液孔呈圆形。

优选的，第三排液孔的孔面积大于吸液孔的孔面积。

优选的，顶罩上方沿顶罩长度方向间隔设置有至少两个吸液管，吸液孔和第三排液孔沿顶罩长度方向间隔设置有若干个，每个吸液管均对应有部分吸液孔和第三排液孔。

有益效果是：与现有技术相比，本实用新型的一种电路板蚀刻积液的吸液组件，通过吸液管的真空吸力来吸除电路板上的残留蚀刻废液，使得蚀刻废液不会影响后续的蚀刻加工，提升蚀刻精度。

附图说明

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的详细说明，其中：

图1为吸液组件的正向视角的结构示意图；

图2为吸液组件的侧向视角的结构示意图；

图3为硬质电路板吸液组件的正向视角的结构示意图；

图4为硬质电路板吸液组件的侧向视角的结构示意图；

图5为吸液筒底部吸液孔的结构示意图；

图6为吸液筒顶部第三排液孔的结构示意图；

图7为旋转套筒和内筒的截面示意图；

图8为旋转套筒上第一排液孔的结构示意图；

图9为内筒上第二排液孔的结构示意图；

图10为蚀刻液运输管路及驱动系统的连接结构示意图；

图11为图10中A部分的局部放大图；

图12为接头组件的正向视角的结构示意图；