[实用新型]一种高浪涌电流能力碳化硅二极管有效

专利信息
申请号: 201821397084.7 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN208608203U 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 朱袁正;周锦程;杨卓;叶鹏 申请(专利权)人: 无锡新洁能股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L21/04
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 浪涌电流 高阻区 碳化硅二极管 碳化硅外延层 本实用新型 外延层 穿过 导通工作状态 半导体基板 半导体器件 上表面 下表面 邻接 延伸 衬底 高阻 制造
【权利要求书】:

1.一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,包括半导体基板,所述半导体基板包括N型碳化硅衬底及位于N型碳化硅衬底上的N型碳化硅外延层,在所述N型碳化硅外延层内的上部设有若干个P型阱区,其特征在于,在所述P型阱区下方或下表面设有N型高阻区,在P型阱区内设有多个沟槽,位于P型阱区边缘的沟槽与N型碳化硅外延层邻接,且沟槽从半导体基板的上表面穿过P型阱区延伸到N型高阻区内或依次穿过P型阱区、N型高阻区延伸到N型碳化硅外延层内,所述沟槽内填充有绝缘介质层。

2.根据权利要求1所述的一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,其特征在于:在所述半导体基板的上表面设有阳极金属,所述阳极金属与所述N型外延层肖特基接触,与P型阱区欧姆接触;在所述半导体基板的下表面设有阴极金属,所述阴极金属与N型碳化硅衬底欧姆接触。

3.根据权利要求2所述的一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,其特征在于:所述沟槽内设有导电多晶硅及包裹导电多晶硅的绝缘介质层,所述导电多晶硅与阳极金属电连接。

4.根据权利要求1所述的一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,其特征在于:所述N型高阻区的电阻率大于N型碳化硅外延层的电阻率。

5.根据权利要求1所述的一种高浪涌电流能力碳化硅二极管,其特征在于:在相邻的P型阱区间设有N型阱区,所述N型阱区与沟槽邻接,所述N型阱区的电阻率小于N型高阻区的电阻率,所述N型阱区的电阻率等于N型碳化硅外延层的电阻率或小于N型碳化硅外延层的电阻率。

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