[实用新型]一种温度控制系统及镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种温度控制系统及镀膜设备，所述温度控制系统包括温度控制腔室、加热装置、温度控制装置及匀热件；所述温度控制装置与所述加热装置电连接，所述温度控制装置用于控制所述加热装置的加热功率使所述加热装置的温度位于第一预设温度区间；所述温度控制腔室为镀膜设备的腔室，所述腔室内还设置有可移动的镀膜基板，所述加热装置设置于所述腔室的上部，所述镀膜基板设置于所述腔室和所述加热装置之间；所述匀热件设置于所述镀膜基板与所述加热装置之间。本实用新型提供的温度控制系统及镀膜设备解决了加热镀膜基板过程中出现的加热不均匀的问题，能够实现均匀的加热效果。

技术领域

本实用新型实施例涉及镀膜设备制造领域，尤其涉及一种温度控制系统及镀膜设备。

背景技术

在镀膜设备中，例如铜铟镓硒CIGS真空共蒸发设备中，通常需要设置加热装置。CIGS真空共蒸发设备是一种真空镀膜设备，也是制作CIGS薄膜太阳能电池的关键设备。目前，CIGS薄膜太阳能电池是较为主流的太阳能电池， CIGS薄膜太阳能电池由铜(Cu)、铟(In)、镓(Ga)、硒(Se)四种元素构成最佳比例的黄铜矿结晶薄膜太阳能电池，是组成电池板的关键技术。CIGS真空共蒸发设备由多个真空腔室组成，一般为进片室、加热室、工艺室、冷却室和出片室等，其中在加热室和工艺室中均需要实现对基板的均匀加热。现有技术中通常会在腔室的中心设置加热装置，因为基板的尺寸较大，在加热过程中会出现加热不均匀的问题，容易导致基板产生裂痕。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种温度控制系统及镀膜设备，以解决加热镀膜基板过程中出现加热不均匀的问题。

第一方面，本实用新型实施例提供一种温度控制系统，包括温度控制腔室、加热装置、温度控制装置及匀热件；

所述温度控制装置与所述加热装置电连接，所述温度控制装置用于控制所述加热装置的加热功率使所述加热装置的温度位于第一预设温度区间；

所述温度控制腔室为镀膜设备的腔室，所述腔室内还设置有可移动的镀膜基板，所述加热装置设置于所述腔室的上部，所述镀膜基板设置于所述加热装置下方；

所述匀热件设置于所述镀膜基板与所述加热装置之间。

可选的，所述匀热件为碳纤维板。

可选的，所述温度控制装置包括：

可编程逻辑控制器PLC；

可控硅，所述可控硅与所述PLC和所述加热装置电连接。

可选的，所述温度控制装置包括测温装置，所述测温装置包括：

第一测温单元，所述第一测温单元用于测量所述镀膜基板的温度；

第四测温单元，所述第四测温单元与所述PLC电连接，所述第四测温单元用于测量所述加热装置的温度以使所述PLC根据所述加热装置的温度控制所述加热装置的加热功率。

第二方面，本实用新型实施例提供一种镀膜设备，包括本实用新型实施例所述的温度控制系统。

可选的，所述镀膜设备为铜铟镓硒CIGS真空共蒸发设备。

本实用新型实施例提供的温度控制系统，包括温度控制腔室、加热装置、温度控制装置及匀热件；所述温度控制装置与所述加热装置电连接，所述温度控制装置用于控制所述加热装置的加热功率使所述加热装置的温度位于第一预设温度区间；所述温度控制腔室为镀膜设备的腔室，所述腔室内还设置有可移动的镀膜基板，所述加热装置设置于所述腔室的上部，所述镀膜基板设置于所述加热装置下方；所述匀热件设置于所述镀膜基板与所述加热装置之间。本实用新型实施例解决了加热镀膜基板过程中出现加热不均匀的问题，能够实现均匀的加热效果。

附图说明