[实用新型]一种1位或5位取代的四氮唑后处理除杂装置有效

专利信息
申请号: 201821402968.7 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN208776617U 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 李清平;徐志丹 申请(专利权)人: 湖北佰智昂生物化工有限公司
主分类号: C07D257/04 分类号: C07D257/04;B01J19/00;B01D9/00;B01D53/18
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立;陈振玉
地址: 432505 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 除杂 反应釜 四氮唑 酸性气体吸收 后处理 除杂装置 亚硝酸钠 叠氮钠 氮气 本实用新型 抽吸风机 加料装置 酸性条件 依次连接 叠氮酸 化工生产设备 生产反应釜 制备过程 结晶罐 去除 吸收 排放
【说明书】:

实用新型属于化工生产设备技术领域,具体涉及一种1位或5位取代的四氮唑后处理除杂装置。该包括依次连接的生产反应釜、除杂反应釜和结晶罐,除杂反应釜还依次连接抽吸风机和酸性气体吸收装置,除杂反应釜设置有亚硝酸钠加料装置。通过本实用新型所提供的取代四氮唑后处理除杂装置,可以通过亚硝酸钠加料装置、除杂反应釜、抽吸风机和酸性气体吸收装置除杂。在1位或5位取代的四氮唑的制备过程中,会有未反应的叠氮钠原料。向除杂反应釜中的反应产物中添加亚硝酸钠,在酸性条件下反应,生成氮气,除去叠氮钠及酸性条件下与叠氮钠生成的叠氮酸。少量未去除的叠氮酸可进一步通过酸性气体吸收装置吸收,吸收后气体以氮气为主排放。

技术领域

本实用新型属于化工生产设备技术领域,具体涉及一种1位或5位取代的四氮唑后处理除杂装置。

背景技术

1位或5位取代的四氮唑用于新一代头孢类抗生素的合成、用于抗真菌药物合成的中间体、在精细化工方面也可作为光敏稳定剂使用,改善卤化银类的光敏物质在贮藏期的稳定性、普通精细化学品例如以它为原料合成的金属抗氧化,极压抗磨添加剂等有着稳定的需求量以及作为DNA/RNA的合成,得到的21-0-TBDMS作为抗爱滋病、抗病毒的生化药物。目前国内外生产厂家大多以DMF或甲苯等有机溶剂作为反应体系溶剂,在相转移催化剂的催化下,经过萃取、蒸馏、分离等复杂的工序制备取代的四氮唑产品。在现有制备含取代基四氮唑的方法中,存在工艺流程复杂,操作步骤繁多,反应时间长,生产过程中废气量大,有机溶剂省耗多,废水难生化,对操作人员的身体影响较大。

实用新型内容

为解决现有技术的不足,本实用新型提供了一种1位或5位取代的四氮唑后处理除杂装置。通过本实用新型所提供的1位或5位取代的四氮唑后处理除杂装置可以除去反应产物中过量的叠氮钠杂质。

本实用新型所提供的技术方案如下:

一种1位或5位取代的四氮唑后处理除杂装置,包括依次通过管路连接的生产反应釜、除杂反应釜和结晶罐,所述除杂反应釜还依次通过管路连接抽吸风机和酸性气体吸收装置,所述除杂反应釜设置有亚硝酸钠加料装置。

基于上述技术方案,可以通过亚硝酸钠加料装置、除杂反应釜、抽吸风机和酸性气体吸收装置除杂。在1位或5位取代的四氮唑的制备过程中,会有过量的杂质叠氮钠。向除杂反应釜中的反应产物中添加亚硝酸钠,在反应产物中的酸性条件下,生成氮气,除去叠氮钠。另有一部分叠氮钠在酸性条件下成产叠氮酸于酸性条件下,同过量的亚硝酸钠反应去除。

NaN3+NaNO2+HCl→N2↑+NaCl+H2O

NaN3+HCl→HN3↑+NaCl

HN3+NaNO2+HCl→N2↑+NaCl+H2O

生成的氢叠氮酸可进一步通过酸性气体吸收装置吸收。吸收剂可以为氢氧化钠溶液,从而将尾气吸收。

进一步的,在连通所述除杂反应釜和所述抽吸风机的管路上设置有阀门。

基于上述技术方案,可以通过开关阀门避免管路中气体回流,影响除杂效果。

进一步的,在连通所述抽吸风机和所述酸性气体吸收装置的管路上设置有阀门。

基于上述技术方案,可以通过开关阀门避免管路中气体回流,影响除杂效果。

进一步的,在所述生产反应釜和所述除杂反应釜之间的管路上设置有磁力泵。

进一步的,在所述除杂反应釜和所述结晶罐之间的管路上设置有磁力泵。

具体的,所述酸性气体吸收装置为酸性气体吸收塔或酸性气体吸收罐。

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