[实用新型]摄像模组和深度摄像装置有效
申请号: | 201821404572.6 | 申请日: | 2018-08-29 |
公开(公告)号: | CN208806876U | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
发明(设计)人: | 林绍杰;高明星;李玉升 | 申请(专利权)人: | 青岛小鸟看看科技有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 权鲜枝;吴昊 |
地址: | 266100 山东省青岛市崂山区松*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 深度摄像头 主动光源 盖板 摄像模组 本实用新型 固定设置 摄像装置 遮光部 壳体 反射 遮挡 图像 反射光线 壳体内部 目标物体 物理隔绝 相邻设置 杂散光 体内 | ||
本实用新型公开了一种摄像模组和深度摄像装置。本实用新型的摄像模组,包括壳体和固定设置在壳体上的盖板,壳体内具有相邻设置的主动光源和深度摄像头,盖板上固定设置有位于主动光源与深度摄像头之间的遮光部,以遮挡主动光源发出的光通过盖板反射至深度摄像头。通过在盖板上设置位于深度摄像头和主动光源之间的遮光部,实现在摄像模组的壳体内部物理隔绝主动光源和深度摄像头,遮挡主动光源发出的光通过盖板反射至深度摄像头,确保深度摄像头接收到目标物体的反射光线,提高图像的清晰度,降低杂散光对图像的影响。
技术领域
本实用新型涉及摄影摄像技术领域,尤其涉及一种摄像模组和深度摄像装置。
背景技术
杂散光辐射是指深度摄像系统中除了目标物体反射光外,还有非目标物体反射光扩散到成像传感器表面上的非成像光线辐射能。杂散光的形成导致像面的对比度以及图像的调制传递函数(MTF)降低,噪声增加,使得图像模糊,也容易导致杂散光噪声淹没目标信号。在深度摄像系统中,激光器从系统内部发出深度摄像光线,盖板除了透射光线外还存在一部分反射光线,该反射光线即为杂散光的主要来源。因此,为了保证深度摄像系统能够获得清晰的图像,降低杂散光对图像的影响,需要削弱深度摄像系统中的杂散光。另外,削弱光学系统中的杂散光也是作为评估深度摄像系统成像的一个重要指标。目前市面上多数的深度相机中采用的防杂散光装置,主要方式多为改善镜头本身的杂散光参数,例如增加光阑或在摄像模组系统中放置准直镜等,但这些方式较为复杂,而且成本较高。
实用新型内容
为了解决上述背景技术提出的杂散光进入深度相机的内影响图像的清晰度的问题,本实用新型提供了一种摄像模组和深度摄像装置。
根据本实用新型的一个方面,提供一种摄像模组,包括壳体和固定设置在壳体上的盖板,壳体内具有相邻设置的主动光源和深度摄像头,盖板上固定设置有位于主动光源与深度摄像头之间的遮光部,以遮挡主动光源发出的光通过盖板反射至深度摄像头。
优选地,盖板包括对应深度摄像头的第一盖板和对应光源的第二盖板;遮光部间隔第一盖板和第二盖板。
优选地,第一盖板为圆形或矩形,且设置在深度摄像头的正前方;遮光部对应第一盖板设置为圆形或矩形,套设在第一盖板的外缘。
优选地,深度摄像头包括镜头,第一盖板的面积大于或等于镜头的正面面积;遮光部从盖板向镜头方向垂直延伸至与镜头平齐。
优选地,第二盖板为圆形或矩形,且设置在主动光源的正前方;遮光部对应第二盖板设置为圆形或矩形,套设在第二盖板的外缘。
优选地,第二盖板的面积大于或等于主动光源定向发出的光在盖板上透过时所占的面积;遮光部从盖板向主动光源方向垂直延伸至与主动光源平齐。
优选地,盖板与遮光部一体加工成型;主动光源发出预设波长的光,盖板对应主动光源和深度摄像头部分为透射预设波长的第一滤光部;盖板对应遮光部的部分为截止预设波长的第二滤光部。
优选地,遮光部的截面形状为矩形,盖板上设置有容置遮光部的矩形凹槽。
优选地,盖板为红外滤光片,主动光源为发射红外光的主动光源。
根据本实用新型的另一方面,提供一种深度摄像装置,包括摄像模组,摄像模组为上述任一项的摄像模组。
根据本实用新型的技术方案,摄像模组通过在盖板上设置位于深度摄像头和主动光源之间的遮光部,实现在摄像模组的壳体内部物理隔绝主动光源和深度摄像头,以遮挡主动光源发出的光通过盖板反射至深度摄像头,确保深度摄像头接收到目标物体的反射光线,提高图像的清晰度,降低杂散光对图像的影响。
附图说明
图1为本实用新型第一实施例提供的摄像模组的正视图;
图2为本实用新型第一实施例提供的摄像模组的俯视图;
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