[实用新型]制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具和装置

权利要求书

1.一种制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具，其特征在于，包括中心部分和外围部分，中心部分包括第一水冷盘(1)，外围部分包括第二水冷盘(2)，第二水冷盘(2)设有第一通孔，所述第一通孔的孔径大于第一水冷盘(1)的外径，第一水冷盘(1)放置在第一通孔中，第一水冷盘(1)外径和第一通孔内径之间的空间为储液区(3)；所述外围部分和中心部分均设有冷却水通路(4)。

2.根据权利要求1所述的制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具，其特征在于，所述中心部分还包括固定于第一水冷盘(1)下方的管状件(7)，所述冷却水通路(4)开设于管状件(7)内部并通入第一水冷盘(1)内部。

3.根据权利要求1所述的制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具，其特征在于，所述第一水冷盘(1)为圆形水冷盘，第二水冷盘(2)为环状水冷盘，所述第一水冷盘(1)和第二水冷盘(2)呈同心圆设置。

4.根据权利要求2所述的制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具，其特征在于，所述管状件(7)沿轴向开设有进水孔(5)，进水孔(5)的周围设有环形出水孔(6)，进水孔(5)和环形出水孔(6)通过第一水冷盘(1)内部的冷却水通路(4)连通。

5.根据权利要求1所述的制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具，其特征在于，所述第一水冷盘(1)的上棱边和第二水冷盘(2)第一通孔的上棱边设有倒角(20)。

6.根据权利要求1所述的制备旋转难熔稀有金属靶的水冷模具，其特征在于，所述第一水冷盘(1)的厚度和第二水冷盘(2)的厚度为80mm-120mm，第一水冷盘(1)的厚度和第二水冷盘(2)的厚度相同。

7.一种制备旋转难熔稀有金属靶的装置，其特征在于，包括权利要求1-6所述的水冷模具。

8.根据权利要求7所述的制备旋转难熔稀有金属靶的装置，其特征在于，还包括炉体(8)、送料机构(9)、坩埚(10)、水冷拉锭机构(11)、电子枪(12)、真空系统和充气结构(13)，所述炉体(8)分为炉室和电子枪室，真空系统和充气结构(13)分别与炉室和电子枪室相连；坩埚(10)设于炉室内部，送料机构(9)的送料口设于坩埚(10)上方，坩埚(10)的出流口(14)设于水冷模具的储液区(3)的上方，坩埚(10)和水冷模具的上方设有电子枪(12)，水冷模具的外围部分和中心部分固定于炉室内部；水冷拉锭机构(11)包括台面(1101)和与台面(1101)固定连接的支座(1102)，所述台面(1101)设于第二水冷盘(2)和第一水冷盘(1)的下方。

9.根据权利要求8所述的制备旋转难熔稀有金属靶的装置，其特征在于，所述台面(1101)和支座(1102)开设有可供管状件(7)穿过的第二通孔。

10.根据权利要求8所述的制备旋转难熔稀有金属靶的装置，其特征在于，所述真空系统包括炉室真空系统和电子枪真空系统，所述炉室真空系统与炉室相连，所述电子枪真空系统与电子枪室相连，炉室真空系统包括机械泵(15)、罗茨泵(16)和扩散泵(17)，电子枪真空系统包括机械泵(15)、罗茨泵(16)和分子泵(18)。