[实用新型]一种干泵用过滤冷阱有效

专利信息
申请号: 201821446306.X 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN209270882U 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 宋威运;林罡;崔慧敏 申请(专利权)人: 无锡华源晶电科技有限公司
主分类号: B01D8/00 分类号: B01D8/00;B01D46/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214000 江苏省无锡市无锡新吴区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 内壳 凸出 干泵 外壳主体 水冷 冷却水腔 过滤网 冷阱 过滤 本实用新型 固定连通 上下表面 双层保护 尾气进口 上端 下端 连通 尾气 穿过 净化
【说明书】:

实用新型公开了一种干泵用过滤冷阱,包括水冷外壳、水冷内壳和过滤网,所述水冷外壳包括外壳主体,所述外壳主体的一侧靠近上方的位置固定连通有外壳凸出壳,所述水冷内壳包括内壳主体,所述内壳主体位于外壳主体的内部,且内壳主体的上端与下端均穿过外壳主体的上下表面,所述内壳主体靠近外壳凸出壳的一侧固定连通有内壳凸出壳,且内壳凸出壳位于外壳凸出壳的内部,所述内壳主体与外壳主体之间设置为冷却水腔,所述内壳凸出壳与外壳凸出壳之间设置为冷却水腔,置了过滤网与冷却水腔,从尾气进口进入干泵的尾气不但得到了净化,而且降低了温度,对干泵进行了双层保护,不但延长了干泵的寿命,而且大大提高了干泵的性。

技术领域

本实用新型涉及冷却技术领域,具体是一种干泵用过滤冷阱。

背景技术

PECVD技术原理是利用低温等离子体作为能量源,把硅片放在低压下,并进行辉光电,利用辉光放电并加热,使得晶片升温到预定的温度,然后通过适量的反应气体,气体经过化学反应和等离子反应,使得样品表面形成固态薄膜。其化学反应方程式为:3SiH4+4NH3→SiN4+12H2。在工艺过程中,会有氮化硅的副产物产生,表现为白色粉末状颗粒,这些颗粒在冷态下会进行凝结。PECVD工艺使用的干泵是干泵,其工作原理是通过金属转子高速旋转,把气体挤压出排气口。由于PECVD工艺尾气中粉尘颗粒的存在,使得干泵的运行能力,即抽真空的能力收到了阻碍,所以需要停工停产,对泵进行维修作业。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种干泵用过滤冷阱,以解决现有技术中的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种干泵用过滤冷阱,包括水冷外壳、水冷内壳和过滤网,所述水冷外壳包括外壳主体,所述外壳主体的一侧靠近上方的位置固定连通有外壳凸出壳,所述水冷内壳包括内壳主体,所述内壳主体位于外壳主体的内部,且内壳主体的上端与下端均穿过外壳主体的上下表面,所述内壳主体靠近外壳凸出壳的一侧固定连通有内壳凸出壳,且内壳凸出壳位于外壳凸出壳的内部,所述内壳主体与外壳主体之间设置为冷却水腔,所述内壳凸出壳与外壳凸出壳之间设置为冷却水腔,所述内壳凸出壳的末端设置有尾气进口,所述内壳主体的下端设置有洁净气体出口,所述过滤网包括网筒主体和安装圈,所述网筒主体偏心设置在内壳主体的内部,且网筒主体的上端固定有上堵头,所述网筒主体的下端偏心设置有圆形的平面滤网,且平面滤网通过安装圈固定在内壳主体的内部下方。

优选的,所述外壳主体的下表面远离外壳凸出壳的一侧固定连通有冷却水进口,且外壳主体的上表面靠近外壳凸出壳的一侧固定连通有冷却水出口。

优选的,所述内壳凸出壳的末端固定有气体进口连接法兰盘,且气体进口连接法兰盘上设置有第二法兰盘孔。

优选的,所述洁净气体出口的下端固定有气体出口连接法兰盘,且气体出口连接法兰盘上设置有第一法兰盘孔。

优选的,所述安装圈的下方两侧均固定有连接柱,且连接柱的下端固定在水冷内壳的内壁上。

优选的,所述外壳主体与外壳凸出壳一体成型,所述内壳主体与内壳凸出壳一体成型。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型设置了下进上出的循环冷却水,将冷却水从下方的冷却水进口泵入冷却水腔的内部,当冷却水的高度达到冷却水出口时,携带热量的水从冷却水出口排出,而冷却水进口不断泵入冷却水,使得冷却水为循环状态,下进上出可以使得冷却水腔内部有循环冷却水,以达到最优的冷却效果;

设置了过滤网与冷却水腔,带有粉尘颗粒的尾气从尾气进口进入此冷阱,循环冷却水将内部腔体的温度降低,粉尘颗粒因此附着在网筒主体外表面,达到净化尾气的目的,从尾气进口进入干泵的尾气不但得到了净化,而且降低了温度,对干泵进行了双层保护,不但延长了干泵的寿命,而且大大提高了干泵的性能;

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