[实用新型]一种光学元件像差检测装置及系统有效

专利信息
申请号: 201821451255.X 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN208672282U 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 王雪辉;王建刚;雷桂明;温彬;许维;马云峰 申请(专利权)人: 武汉华工激光工程有限责任公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 王宁宁
地址: 湖北省武汉市东湖开*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 像差 光学元件 调制组件 光斑检测 分析仪 平行光 像差检测装置 光源发射器 光聚焦 本实用新型 光斑信息 有效测试 聚焦 发射
【说明书】:

实用新型提供了一种光学元件像差检测装置及系统,用于解决光学元件的像差状态的有效测试的问题。所述装置包括:光源发射器、调制组件以及光斑检测分析仪,所述调制组件包括待测光学元件,所述光源发射器,用于发射无像差的平行光;所述调制组件,用于接收所述无像差的平行光,并将所述无像差的平行光通过所述待测光学元件后得到的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪;所述光斑检测分析仪,用于接收所述调制组件聚焦的有像差光,并根据所述有像差光聚焦产生的光斑信息得到所述待测光学元件的像差。

技术领域

本实用新型涉及光学检测技术领域,具体为一种光学元件像差检测装置及系统。

背景技术

激光加工是利用激光经过聚焦后在焦点上达到很高的能量密度,广泛应用于材料的加工,如打孔、切割、划片、焊接、热处理等,而激光加工系统中各个光学元件,包括聚焦镜、扩束镜、振镜及场镜等常用的光学元件,其存在的像差对激光加工的工艺效果及加工效率随着激光加工产生较大的影响,而现有的激光加工系统中并没有单独针对光学元件的像差进行检测。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种光学元件像差检测装置及系统,以解决现有技术难以测试光学元件的像差状态的问题。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了以下技术方案:

第一方面:

本申请提供一种光学元件像差检测装置,所述装置包括:光源发射器、调制组件以及光斑检测分析仪,所述调制组件包括待测光学元件,

所述光源发射器,用于发射无像差的平行光;

所述调制组件,用于接收所述无像差的平行光,并将所述无像差的平行光通过所述待测光学元件后得到的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪;

所述光斑检测分析仪,用于接收所述调制组件聚焦的有像差光,并根据所述有像差光聚焦产生的光斑信息得到所述待测光学元件的像差。

上述方案设计的光学元件像差检测装置,通过光斑检测分析仪对通过待测光学元件后形成的有像差光进行聚焦光斑检测分析,有效的解决了光学元件像差检测问题,使得能够有效地测试待测光学元件的像差,有力的提升激光加工系统中的光学元件的光学性能一致性,同时也可以用于激光加工系统中新的光学元件性能评估,从源头上提高激光加工系统的稳定性、一致性和精细化。

在第一方面的可选实施方式中,所述待测光学元件包括具有聚焦特征的光学元件,

所述具有聚焦特征的光学元件,用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光,并将所述无像差的平行光通过所述具有聚焦特征的光学元件后产生的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪。

上述方案设计的光学元件像差检测装置,使得具有聚焦特征的光学元件的像差能够进行检测,使得带有聚焦特征的光学元件的加工系统具有光学性能的一致性,同时也可以对新的具有聚焦特征的光学元件进行性能评估,判断其像差是否在合理范围内。

在第一方面的可选实施方式中,所述调制组件还包括聚焦镜,所述待测光学元件包括无聚焦特征的光学元件,

所述无聚焦特征的光学元件,用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光,并将所述无像差的平行光通过所述无聚焦特征的光学元件后产生的有像差光传输给所述聚焦镜;

所述聚焦镜,用于接收所述有像差光,并将所述有像差光聚焦到所述光斑检测仪。

上述方案设计的光学元件像差检测装置,使得无聚焦特征的光学元件也能检测其像差状态,使得检测的元件不只是检测具有聚焦特征的,检测元件的范围更加广泛,通用性更强。

在第一方面的可选实施方式中,所述调制组件还包括反射镜,所述待测光学元件包括具有扫描聚焦特征的光学元件,

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