[实用新型]一种高功率半导体激光热处理装置有效
申请号: | 201821466138.0 | 申请日: | 2018-09-07 |
公开(公告)号: | CN209276564U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 钟绪浪;朱宝华;罗又辉;王瑾;高云峰 | 申请(专利权)人: | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
主分类号: | C21D1/09 | 分类号: | C21D1/09;C21D9/00 |
代理公司: | 深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385 | 代理人: | 汪琳琳 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 功率变换电路 功率调制 控制电路 激光热处理装置 高功率半导体 本实用新型 储能电路 退火 激光加工技术 发光二极管 有效地实现 热处理 工件表面 连接开关 有效实现 淬火 改性 加热 电源 | ||
1.一种高功率半导体激光热处理装置,其特征在于:所述激光热处理装置包括储能电路、功率变换电路、功率调制控制电路和MCU控制电路;所述储能电路连接开关电源后与所述功率变换电路连接;所述功率变换电路连接发光二极管LD,还分别与所述功率调制控制电路和所述MCU控制电路连接;所述功率调制控制电路也与所述MCU控制电路连接。
2.根据权利要求1所述的高功率半导体激光热处理装置,其特征在于:所述储能电路包括电容C1和电容C2,所述电容C1的正极接在开关电源和所述功率变换电路之间,所述电容C1的负极接地;所述电容C2与所述电容C1并联。
3.根据权利要求2所述的高功率半导体激光热处理装置,其特征在于:所述功率变换电路包括MOS管Q和电流采样电路;开关电源连接所述MOS管Q的D脚,所述MOS管Q的S脚连接发光二极管LD的正极,所述MOS管Q的G脚连接所述功率调制控制电路;所述发光二极管LD的负极连接所述电流采样电路,所述电流采样电路分别接所述MCU控制电路和地端;所述电容C1的正极接在开关电源和所述MOS管Q的D脚之间。
4.根据权利要求3所述的高功率半导体激光热处理装置,其特征在于:所述储能电路通过所述电容C1、电容C2处理并储存开关电源输出的能量后,将所述能量输出给所述功率变换电路的MOS管Q,所述MOS管Q控制发光二极管LD发光实现激光加热;同时,所述电流采样电路对所述发光二极管LD的电流进行采样,并将采样得到的电流反馈给所述MCU控制电路,所述MCU控制电路根据接收的反馈电流并通过所述功率调制控制电路实现对MOS管Q进行实时控制。
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