[实用新型]一种化学水浴沉积装置

权利要求书

1.一种化学水浴沉积装置，其特征在于，包括：

水浴锅；

加热丝，所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁设置；或所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁和底部设置。

2.根据权利要求1所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：

第一搅拌件，所述第一搅拌件转动设置于所述水浴锅的底部，所述第一搅拌件在工作状态下进行转动。

3.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，

所述水浴锅的底部的中心区域设置有一个所述第一搅拌件；和/或，

所述水浴锅的底部的非中心区域设置有一个及以上所述第一搅拌件。

4.根据权利要求3所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，在所述水浴锅的底部的非中心区域设置有一个以上所述第一搅拌件的情况下，一个以上所述第一搅拌件相对于所述水浴锅的底部的中心区域呈以下至少一种形状分布：

辐射状、中心对称、圆形、椭圆形、三角形、多边形、十字形，同心正方形、同心长方形、同心圆、同心三角形和其他同心多边形。

5.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，

所述水浴锅的底部开设有第一凹槽；

所述第一搅拌件设置于所述第一凹槽内。

6.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述第一搅拌件包括：

主体，所述主体转动设置于所述水浴锅的底部，所述主体沿外圆周面的周向间隔设置有第一连接部和第二连接部；

第一扇叶，所述第一扇叶与所述第一连接部固定连接；

第二扇叶，所述第二扇叶与所述第二连接部固定连接。

7.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：

第一转速旋钮，所述第一转速旋钮用于调节所述第一搅拌件的转动速度。

8.根据权利要求1所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：

磁子模块，所述磁子模块转动设置于所述水浴锅的底部，所述磁子模块在工作状态下进行转动，以带动所述水浴锅水浴加热的样品容器内的磁性搅拌子转动。

9.根据权利要求8所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述磁子模块设置于所述水浴锅的底部的中心区域。

10.根据权利要求8所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，

所述水浴锅的底部开设有第二凹槽；

所述磁子模块设置于所述第二凹槽内。

11.根据权利要求8所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述磁子模块通过安装轴设置于所述水浴锅的底部，所述安装轴上还设置有第二搅拌件，所述第二搅拌件在工作状态下进行转动。

12.根据权利要求11所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：

第二转速旋钮，所述第二转速旋钮用于调节所述磁子模块和/或所述第二搅拌件的转动速度。

13.根据权利要求1所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：

至少两个测温元件，各测温元件用于测量所述水浴锅内的不同位置的温度值；

显示面板；

控制器，所述控制器分别与所述显示面板和各测温元件电连接，所述控制器用于获取各测温元件测得的温度值，并在任意两个测温元件测得的温度值的差值均小于预设的温差阈值的情况下，控制所述显示面板以文字、数字或图案形式显示温度均匀提示信息。

14.根据权利要求1所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：

温控表，所述温控表用于设定所述水浴锅的加热参数。