[实用新型]一种背封炉喷头放置工具有效

专利信息
申请号: 201821468582.6 申请日: 2018-09-10
公开(公告)号: CN208781815U 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 张天鹏;张娟娟 申请(专利权)人: 麦斯克电子材料有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 逯雪峰
地址: 471000 河南省洛阳*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 喷头 放置工具 柱孔 背封 喷嘴 竖杆 窄缝 门字型框架 圆形支撑环 喷头支架 对称 垂直 本实用新型 板面中心 拆装维护 弹簧凸块 竖杆顶端 柱孔内壁 穿透板 拆装 杆体 下端
【说明书】:

一种背封炉喷头放置工具,背封炉和放置工具均设置在工作台上,背封炉上设有喷头,喷头前端设有喷嘴,喷头放在放置工具上,放置工具包括门字型框架和喷头支架,门字型框架的板面中心设有保护喷嘴的窄缝;喷头支架包括竖杆和放置喷头的圆形支撑环,圆形支撑环固定在竖杆顶端,且位于窄缝上方,竖杆下端的杆体上对称设有凹槽,窄缝一侧设有垂直且穿透板面的第一柱孔,沿着第一柱孔的径向方向,对称设有垂直第一柱孔内壁的第二柱孔,第二柱孔内设有弹簧凸块,竖杆下端设置在第一柱孔内;本实用新型通过设置放置工具,可以将喷头稳当地放置在工具上面,不会碰撞到喷嘴,便于对喷头进行拆装维护,解决了拆装喷头时无法放置的问题。

技术领域

本实用新型涉及半导体材料生产技术领域,具体的说是一种背封炉喷头放置工具。

背景技术

半导体硅抛光片生产过程中有一道重要的工艺就是背封工艺,一种重要的背封工艺就是采用常压化学气象淀积(APCVD)原理在硅片背面生长一层二氧化硅薄膜,执行该背封工艺主流设备有一种是常压式背封炉即APCVD背封炉,工作原理如下:将硅片放到履带上,匀速通过喷头下方,喷头喷出硅烷与氧气在硅片表面发生反应,并通过氮气使之与大气进行隔离,适当的气体配合适当的温度在常压环境下进行反应,在硅片背面生成一层二氧化硅薄膜。在生产过程中为保证工艺质量,要经常对喷头进行维护和清洁,此时,要对喷头进行拆装,由于喷头属于精密设备,喷头的喷嘴是一条狭缝并凸出5毫米左右,尤其是喷嘴不能经受碰撞或挤压,如果直接将喷头放置在工作台上,势必会挤压到喷嘴,影响工艺质量,而侧面放置又无法拆装,因此需要设计一种专门用来放置背封炉喷头的工具,将喷嘴保护起来,避免喷嘴受到挤压或碰撞。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述技术问题的不足,本实用新型提出一种背封炉喷头放置工具,可以将喷头稳当地放置在工具上面,不会碰撞到喷嘴,便于对喷头进行拆装维护,解决了拆装喷头时无法放置的问题。

本实用新型为解决上述技术问题的不足而采用的技术方案是:一种背封炉喷头放置工具,背封炉和放置工具均设置在工作台上,所述背封炉上设有喷头,所述喷头前端设有喷嘴,所述喷头放在所述放置工具上,所述放置工具包括门字型框架和喷头支架,所述门字型框架的板面中心设有保护所述喷嘴的窄缝;所述喷头支架包括竖杆和放置所述喷头的圆形支撑环,所述圆形支撑环固定在所述竖杆顶端,且位于所述窄缝上方,所述竖杆下端的杆体上对称设有凹槽,所述窄缝一侧设有垂直且穿透所述板面的第一柱孔,沿着所述第一柱孔的径向方向,对称设有垂直所述第一柱孔内壁的第二柱孔,所述第二柱孔内设有弹簧凸块,所述竖杆下端设置在所述第一柱孔内。

作为优选方案,所述弹簧凸块包括弧形凸块和弹簧,所述弹簧一端固定在所述第二柱孔内壁上,另一端与所述弧形凸块的平面连接,所述弧形凸块的弧面指向所述第一柱孔的中心。

作为优选方案,所述弧形凸块的弧面与所述凹槽相匹配,通过所述凹槽与所述弹簧凸块配合,将所述竖杆卡紧在所述第一柱孔内。

作为优选方案,所述凹槽设有2~4组,每组以所述竖杆的中心轴为对称轴设置在所述竖杆的杆体上。

作为优选方案,所述圆形支撑环的直径小于所述喷头的尺寸。

作为优选方案,所述窄缝的宽度和长度分别大于所述喷嘴的宽度和长度。

作为优选方案,所述圆形支撑环的中心与所述窄缝的中心在工作台上的投影重合。

本实用新型的有益效果是:

(1)本实用新型提供了一种背封炉喷头放置工具,包括门字型框架和喷头支架,门字型框架可以设置在背封炉的工作台上,在门字型框架的板面中心设有窄缝,喷头支架设置在窄缝上方,喷头朝下放置在喷头支架上,将喷嘴放进窄缝内,在对喷头进行维护和清洁时,避免了拆装喷头时对喷嘴造成碰撞或挤压损害,提高了工艺质量和设备稳定性;

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