[实用新型]一种LED结构有效

专利信息
申请号: 201821478090.5 申请日: 2018-09-10
公开(公告)号: CN208862013U 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 王君君;陈志涛;刘宁炀;何晨光;王巧 申请(专利权)人: 广东省半导体产业技术研究院
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 梁香美
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 预应力层 本实用新型 量子阱层 模板层 光提取效率 调控 制作
【权利要求书】:

1.一种LED结构,其特征在于,所述LED结构包括模板层、预应力层、N型氮化物层、量子阱层以及P型氮化物层,所述模板层、所述预应力层、所述N型氮化物层、所述量子阱层以及所述P型氮化物层逐层面连接,所述预应力层用于调控所述LED结构的应力。

2.如权利要求1所述的LED结构,其特征在于,所述预应力层包括周期性排布的AlxGa1-xN层与AlyGa1-yN层,其中,x与y的值均大于或等于0.4。

3.如权利要求2所述的LED结构,其特征在于,所述预应力层包括多个AlxGa1-xN层与AlyGa1-yN层,所述AlxGa1-xN层与AlyGa1-yN层交替排布,且x与y的值逐层增大,或逐层减小,或先增大后减小或先减小后增大。

4.如权利要求3所述的LED结构,其特征在于,所述x与y的值成等差数列逐层增大,或逐层减小,或先增大后减小或先减小后增大。

5.如权利要求2所述的LED结构,其特征在于,所述AlxGa1-xN层与所述AlyGa1-yN层的厚度均小于100nm。

6.如权利要求2所述的LED结构,其特征在于,x与y的值相等或不相等。

7.如权利要求1所述的LED结构,其特征在于,所述预应力层的厚度小于100nm。

8.如权利要求1所述的LED结构,其特征在于,所述模板层包括衬底与缓冲层,所述衬底与所述缓冲层面连接,所述缓冲层与所述预应力层面连接。

9.如权利要求8所述的LED结构,其特征在于,所述衬底至少包括蓝宝石衬底、Si衬底、SiC衬底、GaN单晶衬底或AlN单晶衬底中的一种。

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