[实用新型]一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置

权利要求书

1.一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，包括稳定仓（1），其特征是：所述的稳定仓（1）顶部设有进料管（2），稳定仓（1）一侧设有稳定剂中转仓（3），稳定剂中转仓（3）底部设有稳定剂输出管（4），稳定剂输出管（4）一端与稳定剂中转仓（3）底部连接，另一端与稳定仓（1）侧壁连接；

稳定仓（1）底部设有出料管（7），出料管（7）上端与稳定仓（1）底部连接，出料管（7）下端分为第一支管（8）和第二支管（9），第一支管（8）与溶液中转仓（10）顶部连接，第二支管（9）与晶种制备仓（11）顶部连接，溶液中转仓（10）与晶种制备仓（11）之间通过连接管（12）连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的稳定仓（1）顶部设有第一电机（5），第一电机（5）的转轴竖直向下穿过稳定仓（1）顶面设置，位于稳定仓（1）内的第一电机（5）转轴上设有搅拌叶片（6）。

3.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的第一支管（8）和第二支管（9）在相交位置上设有挡板轴（17），挡板轴（17）上设有挡板（18），挡板（18）的宽度与第二支管（9）宽度相同。

4.根据权利要求3所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的挡板轴（17）与设置在出料管（7）外侧的第二电机（20）转轴通过联轴器连接。

5.根据权利要求3或4所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的第一支管（8）和第二支管（9）的相交位置上设有挡板轴限位弧板（19），挡板轴限位弧板（19）的内径与挡板轴（17）的截面直径相同，挡板轴（17）设置在挡板轴限位弧板（19）内，且挡板轴限位弧板（19）的角度大于180°。

6.根据权利要求4所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的晶种制备仓（11）外壁上设有温度控制机构（13）和温度计（14）。

7.根据权利要求1所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的连接管（12）倾斜设置，连接管（12）较高的一端设置在溶液中转仓（10）的底面上，连接管（12）较低的一端设置在晶种制备仓（11）侧壁上。

8.根据权利要求6所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的稳定剂输出管（4）上设有第一阀门（401），所述的出料管（7）在靠近上端的位置上设有第二阀门（701），所述的连接管（12）上设有第三阀门（121），第一阀门（401）、第二阀门（701）和第三阀门（121）均与PLC控制器（15）连接；

所述的第二电机（20）、温度控制机构（13）和温度计（14）也与PLC控制器（15）连接。

9.根据权利要求8所述的一种用于硅溶胶制备中胶粒增长的装置，其特征在于：所述的稳定仓（1）侧壁上设有PH传感器（16），PH传感器（16）与PLC控制器（15）连接。