[实用新型]一种光栅尺拼接姿态检测系统与光栅尺拼接系统

说明书

本实用新型涉及精密测量领域，公开了一种光栅尺拼接姿态检测系统与光栅尺拼接系统，光栅尺拼接姿态检测系统包括支撑平台，支撑平台用于放置待检测的光栅，并可供光栅相对支撑平台移动；检测光源，检测光源用于向光栅射出第一光束，第一光束经光栅形成至少两道第二光束；接收装置，第二光束可分别在接收装置上形成光斑；观测装置，观测装置用于记录各光斑的位置。本实用新型通过检测光源向待测光栅施加第一检测光束，第一检测光束经光栅作用后形成至少两条第二光束，第二光束在接收装置形成光斑，记录并比较不同光栅形成的光斑便可以实现光栅姿态的检测。本实用新型具有结构简单、易于操作等优点。

技术领域

本实用新型涉及精密测量领域，尤其是涉及一种检测光栅拼接姿态的检测系统，以及实现长尺度光栅生产的拼接系统。

背景技术

光栅尺测距是较为精密的测距方法，其测距原理是利用参考光栅和测量光栅的±1级衍射光形成干涉条纹，当读数头沿测量光栅长度方向发生位移时，通过计数干涉条纹移动个数来解算增量位移。其中测量光栅长度长度决定了光栅尺测距的最大范围，光栅长度越长，光栅尺测距范围越大。但是目前为止单次加工长尺度光栅的技术尚不成熟，通常是通过光栅拼接的方法来增大光栅的长度，光栅拼接技术指将多个短光栅通过首尾连接的方式拼接出长尺度的光栅，此技术的难点在于如何保证各短光栅拼接时姿态的一致性，现有技术中的姿态检测系统结构复杂，操作不便，难以满足要求。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种光栅尺拼接姿态检测系统与应该该检测系统的拼接系统，用于解决现有姿态检测系统结构复杂、操作不便的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种检测系统，包括

支撑平台，支撑平台用于放置待检测的光栅，并可供光栅相对支撑平台移动；

检测光源，检测光源用于向光栅射出第一光束，第一光束经光栅形成至少两道第二光束；

接收装置，第二光束可分别在接收装置上形成光斑；

观测装置，观测装置用于记录各光斑的位置。

作为上述方案的进一步改进方式，还包括反射镜，第二光束经过反射镜的反射后在接收装置上形成光斑。

作为上述方案的进一步改进方式，包括沿第二光束射出方向分布的第一反射镜与第二反射镜，第一反射镜的镜面朝向接收装置，第二反射镜的镜面朝向光栅的出光面，第二光束经过第二反射镜反射至第一反射镜，再由第一反射镜反射至接收装置。

作为上述方案的进一步改进方式，接收装置包括与光栅平行放置的观测屏，观测装置包括相机。

一种拼接系统，包括姿态调整装置与上述检测系统，姿态调整装置用于调整光栅的姿态，以使该光栅形成的光斑与记录中的前一相邻光栅形成的光斑重合。

作为上述方案的进一步改进方式，还包括可相对支撑平台移动的光栅底板，光栅底板上设有用于放置光栅的基准平面。

作为上述方案的进一步改进方式，姿态调整装置包括分布于光栅的相对两侧的微调装置，微调装置包括可相对光栅伸缩的顶针。

作为上述方案的进一步改进方式，基准平面上还设置有储胶槽。

作为上述方案的进一步改进方式，还包括用于将光栅压接在基准平面上的柔性预紧装置。

作为上述方案的进一步改进方式，支撑平台上设有滑槽，光栅底板位于滑槽内并可沿滑槽滑动。

本实用新型的有益效果是：