[实用新型]一种芯片的湿法开帽观察台有效
| 申请号： | 201821498472.4 | 申请日： | 2018-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN208954943U | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 尚跃;余夕霞 | 申请（专利权）人： | 上海聚跃检测技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200233 上海市徐*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 帽盒 观察板 湿法 底座 滴定装置 芯片 观察台 开口 本实用新型 顶部设置 工作效率 观察目镜 滴定管 加热板 支撑杆 观察 伸入 | ||
1.一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：包括底座(1)、观察板(2)、滴定装置(3)，所述的观察板(2)通过支撑杆(4)连接在所述底座(1)的上方，所述的观察板(2)上设置有观察目镜(5)，所述的底座(1)上设置有开帽盒(6)，所述的开帽盒(6)的底部设置有加热板(7)，所述的开帽盒(6)的顶部设置有开口(8)，所述的滴定装置(3)具有从所述开口(8)伸入所述开帽盒(6)的滴定管(3-1)。
2.根据权利要求1所述的一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：所述的加热板(7)为陶瓷加热板。
3.根据权利要求1所述的一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：所述的加热板(7)与设置在所述底座(1)上的陶瓷质的倾斜台座(11)通过硅酸钠胶水胶合，所述的倾斜台座(11)的上表面相对所述加热板(7)的上表面倾斜设置。
4.根据权利要求3所述的一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：所述的倾斜台座(11)的上表面设置有引脚插座(12)，所述的引脚插座(12)上设置有引脚槽(13)，所有所述的引脚槽(13)的底部均处于同一水平面。
5.根据权利要求1所述的一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：所述的滴定装置(3)包括与所述滴定管(3-1)连接的容纳筒(3-2)，所述的容纳筒(3-2)内设置有活塞杆(3-3)，所述的容纳筒(3-2)外侧通过固定夹(3-4)固定在活动底盘(3-5)上方。
6.根据权利要求5所述的一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：所述的活动底盘(3-5)的底部设置有至少三个活动滚珠(14)。
7.根据权利要求1所述的一种芯片的湿法开帽观察台，其特征在于：所述的开帽盒(6)包括由玻璃构成的矩形盒体，设置于所述的开帽盒(6)的顶部的所述的开口(8)的面积大于所述加热板(7)的面积的1.2倍，且小于1.5倍。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
