[实用新型]一种重金属污染水域生态治理系统有效
申请号: | 201821510310.8 | 申请日: | 2018-09-14 |
公开(公告)号: | CN209307032U | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 纪智慧;贺志勇;李细晓;赵大勇;贺建敏;李素敏;谢毅;余彬 | 申请(专利权)人: | 湖南新九方科技有限公司 |
主分类号: | C02F3/34 | 分类号: | C02F3/34;C02F3/32;C02F101/20 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 伍传松 |
地址: | 412000 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缓冲区 生态拦截 净化系统 潜流湿地 净化区 土壤层 耐污 截流 重金属污染 水域生态 污染水域 营养土层 治理系统 底泥层 水生植物 岸边 草本植物 本实用新型 重金属富集 相邻设置 径流水 粘土层 阻隔层 根系 乔木 微生物 拦截 水域 延伸 | ||
本实用新型公开一种重金属污染水域生态治理系统,包括土壤层和生态拦截净化系统,所述土壤层从岸边延伸至污染水域底部,所述土壤层包括由上至下的:营养土层、底泥层、阻隔层和粘土层,所述生态拦截净化系统设置在营养土层上方;所述生态拦截净化系统包括截流缓冲区、渗透缓冲区、和潜流湿地净化区,所述潜流湿地净化区位于所述污染水域,所述截流缓冲区、渗透缓冲区由远到近依次相邻设置在水域岸边;所述截流缓冲区由根系发达的耐污乔木构成,所述渗透缓冲区由耐污的草本植物构成、所述潜流湿地净化区由耐污的水生植物构成;所述底泥层中含有重金属富集性微生物;所述渗透缓冲区横向设有生态拦截沟以用于拦截径流水。
技术领域
本实用新型涉及水域污染治理领域,特别是涉及一种重金属污染水域生态治理系统。
背景技术
在各类工业生产过程中,废水不断地排放到自然环境中,造成河道水体严重的重金属的污染。河道水体中绝大部分的重金属污染物通过沉淀、吸附与络合、氧化及还原等各种不同的物理化学作用,由水体转入固相底泥中,最终沉积并逐渐富集,导致底泥中各种重金属的含量严重超标,造成严重的环境污染。而且底泥中重金属处于不稳定的状态,迁移性强,在自然条件下会随着河道走向,迁移至下游水系中,同时随着河流流入耕地、林区等,甚至进入下游城市的饮用水源区,严重破坏自然环境以及生态系统,危害人类的健康。湖南、广西等地区已经出现了众多底泥重金属污染现象,修复河道底泥的污染已经日益成为一项迫切而又艰巨任务。
从目前针对河道底泥重金属污染的修复方法来看,主要有异位固定稳定化、异位淋洗处理、异位阻隔填埋技术、原位固定稳定化、原位植物修复技术等方法。异位处理技术是将底泥疏泼后集中处理,存在着施工工程量大、治理费用高,且容易产生二次污染等一系列缺点。异位阻隔填埋技术多使用粘土进行阻隔,阻隔效果不佳。
原位固化稳定化技术是通过物理、化学或生物方法来减少重金属污染底泥的容积,从而降低重金属的迁移性,进而达到减少重金属释放的底泥综合整治技术。原位植物修复技术是通过重金属耐性植物,包括重金属稳定植物和重金属富集植物来修复重金属污染底泥。目前原位植物修复技术基本都是从耐重金属植物、重金属富集植物以及构建稳固的植物群落等方面来展开研究的,但是实际将这些植物用于河道底泥的修复的工程技术研究很少。
实用新型内容
本实用新型的目的提供一种重金属污染水域生态治理系统,利用植物及微生物的吸收和吸附作用对底泥中重金属进行有效固化,同时通过态净化群落、阻隔层和生态拦截沟防止雨水的冲刷和地下水的渗漏造成二次污染。
本实用新型所采用的技术方案是:一种重金属污染水域生态治理系统,包括土壤层和生态拦截净化系统,所述土壤层从岸边延伸至污染水域底部,所述土壤层包括由上至下的:营养土层、底泥层、阻隔层和粘土层,所述生态拦截净化系统设置在营养土层上方;
所述生态拦截净化系统包括截流缓冲区、渗透缓冲区、和潜流湿地净化区,所述潜流湿地净化区位于所述污染水域,所述截流缓冲区、渗透缓冲区由远到近依次相邻设置在水域岸边;
所述截流缓冲区由根系发达的耐污乔木构成,所述渗透缓冲区由耐污的草本植物构成、所述潜流湿地净化区由耐污的水生植物构成;
所述底泥层中含有重金属富集性微生物;所述渗透缓冲区横向设有生态拦截沟以用于拦截径流水。
进一步优化,所述阻隔层由上至下依次为第一聚酯长丝无纺土工布、双光面HDPE土工膜和第二聚酯长丝无纺土工布。
进一步优化,所述第一聚酯长丝无纺土工布和第二聚酯长丝无纺土工布的规格均为250-350g/m2,所述双光面HDPE土工膜的厚度规格为1-2mm。
进一步优化,所述生态拦截沟的沟底和沟壁均为土质,所述沟底和沟壁均种植有耐污的水生植物,所述生态拦截沟的尾部设有拦截坝,所述拦截坝上设有节制阀,所述生态拦截沟的沟底位于阻隔层上方。
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