[实用新型]一种化学气相沉积装置及其喷头

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，包括：

本体，开设有进气通道，以供反应气体进入；

喷射部，设有多个喷嘴，喷嘴与进气通道连通，反应气体经由进气通道进入喷嘴，并被喷嘴喷出；及

热交换机构，设置于本体和/或喷射部，热交换机构内具有冷却剂，能够使得喷头的温度降低。

2.如权利要求1所述的喷头，其特征在于，热交换机构包括热交换器和冷却通道，冷却通道的两端具有冷却通道入口和冷却通道出口，冷却通道入口和冷却通道出口均与热交换器连接，冷却通道设置于本体和/或喷射部，冷却剂能够在冷却通道与热交换器之间循环。

3.如权利要求2所述的喷头，其特征在于，冷却通道设置于喷射部的外周，并围绕喷嘴设置。

4.如权利要求3所述的喷头，其特征在于，冷却通道设置于喷射部的远离本体的一侧。

5.如权利要求2所述的喷头，其特征在于，冷却通道设置于本体的靠近喷射部的一侧。

6.如权利要求2所述的喷头，其特征在于，冷却通道的内径为0.5cm-1cm，冷却剂的流速为10L/min-50L/min。

7.如权利要求2所述的喷头，其特征在于，热交换机构包括压力泵、容纳部、检测系统及阀门，容纳部用于容纳冷却剂，压力泵用于为冷却剂提供循环所需的动力，检测系统用于进行温度和压力检测。

8.如权利要求1所述的喷头，其特征在于，冷却剂包括乙二醇和去离子水。

9.如权利要求7所述的喷头，其特征在于，冷却通道内的冷却剂的温度为30℃-50℃。

10.一种化学气相沉积装置，其特征在于，其包括反应腔、加热器及如权利要求1-9中任一项所述的喷头，加热器和喷头位于反应腔内，喷头位于反应腔的上部，加热器用于承载并加热晶片，反应气体经由进气通道进入反应腔，并从喷嘴喷出，落到晶片表面上，在对晶片进行化学气相沉积的过程中，冷却剂使得喷头的温度降低。

11.如权利要求10所述的化学气相沉积装置，其特征在于，加热器使得反应腔内的反应温度高于480℃。

12.如权利要求10所述的化学气相沉积装置，其特征在于，化学气相沉积装置还包括辅助热交换机构，辅助热交换机构内具有辅助冷却剂，能够使得化学气相沉积装置的温度降低。

13.如权利要求12所述的化学气相沉积装置，其特征在于，辅助热交换机构包括辅助热交换器和辅助冷却通道，辅助冷却通道的两端具有辅助冷却通道入口和辅助冷却通道出口，辅助冷却通道入口和辅助冷却通道出口均与辅助热交换器连接，辅助冷却通道设置于反应腔内，辅助冷却剂能够在辅助冷却通道与辅助热交换器之间循环。

14.如权利要求13所述的化学气相沉积装置，其特征在于，辅助冷却剂包括乙二醇和去离子水，辅助冷却通道内的辅助冷却剂的温度为75℃。