[实用新型]化学机械研磨垫有效
| 申请号： | 201821519455.4 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN209110816U | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 王盼;蔡长益 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 董天宝;于宝庆 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学机械研磨 研磨层 微突起 基底 晶圆 研磨 均一性 孔隙率 研磨垫 刮伤 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械研磨垫，包括：基底及形成于所述基底上的研磨层，其中所述研磨层的表面具有：
多个均匀有序分布的微突起结构；
多个沟槽，形成于多个所述微突起结构之间；
其中，所述研磨层表面的孔隙率为30％～50％。
2.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于，相邻的所述微突起结构之间的间距为0.3um～11um。
3.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于，所述微突起结构的高度为100um～300um。
4.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于，所述微突起结构的直径为0.5um～20um。
5.根据权利要求1所述的化学机械研磨垫，其特征在于，所述多个沟槽在所述研磨层表面上的正投影轨迹呈波浪形，且该波浪形的正投影轨迹符合简谐运动的运动轨迹。
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