[实用新型]一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台有效
申请号: | 201821524246.9 | 申请日: | 2018-09-18 |
公开(公告)号: | CN210136184U | 公开(公告)日: | 2020-03-10 |
发明(设计)人: | 崔长彩;李子清;薛步刚;黄国钦;黄辉 | 申请(专利权)人: | 华侨大学 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/01 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭;张迪 |
地址: | 362000 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 背光 照明 衬底 缺陷 检测 回转 工作台 | ||
本实用新型提供了一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台,定位装置包括针对不同大小衬底的圆环托盘,圆环托盘上带有刻度,实现对不同规格的圆形衬底的定位;圆柱形连接支架用于连接衬底定位装置和背光照明装置,实现对光源的密封;背光照明装置,提供多种形式的光源,同时保证均匀照明;圆环形转接板,实现照明装置和旋转台的固定;旋转台可带动背光照明装置以及衬底定位装置实现回转运动;具有可拆卸功能的底座,用于固定衬底定位装置以及与检测平台的连接。本实用新型与现有的装置相比,不仅可实现对多种规格的衬底晶片精确定位和回转运动用于全场扫描测试,又可以提供多种均匀照明的背光光源,满足不同缺陷检测时的照明需求。
技术领域
本实用新型涉及衬底缺陷测量领域,尤其涉及一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台。
背景技术
随着半导体材料的迅速发展,对高性能的半导体材料有极大的需求,尤其是LED照明、电力电子器件、新能源汽车等领域;半导体衬底作为整个器件的支撑,衬底的质量直接关乎器件的性能。衬底材料在加工过程中,难免会产生损伤,在衬底的表面留下缺陷,而衬底大多呈圆形的透明/半透明状态,透光性较强,且缺陷与衬底本身颜色对比度较小,这就对无损的光学检测提出了更高的要求。
在衬底缺陷的检测系统中,照明装置、定位装置以及工作台的运动方式占了举足轻重的位置。照明的方式、角度及光的均匀性、强度等直接影响测量效果和后期图像处理的难易程度;衬底放置的方式、放置的平整度以及测量的可重复性,直接影响了定位精度;工作台的运动方式的选择直接影响了检测速度,尤其是高精密测量系统中,在检测视场较小的情况下,加入回转运动,减少全场检测时间。
在现有的检测装置中,如专利CN 204064972 U所设计的光学镜片表面缺陷检测系统,该系统有三个光源和三个相机,分别完成光学镜片的定位、正面检测和反面检测。通过顶针结构和机械手的结合,完成光学镜片正反面交换,在不同工位下实现光学镜片正反面瑕疵的自动检测。但是,整个系统采用正面直入射、单一光源照明,若采用背光照明,因光源不具有密封性,在正面及反面检测时易受到外界光线的干扰,影响检测结果的准确性。专利CN 204359271 U所设计的半导体晶片的检测装置,该装置通过计算机对半导体晶片轮廓图像的计算和分析来控制运动,实现检测光投射在半导体晶片的特定位置,并且利用光路收集系统,将光强度和光谱信息给计算机,形成与位置对应的光强、光谱数据信息图。该装置的光源是内嵌在检测系统中的,只有一种照明选择,且只能够获取与晶片位置对应的光强和光谱信息。专利CN 106574900 A所设计的晶片的缺陷测量装置,该装置采用上下鼓风机将空气喷射到晶片表面以使所述晶片固定,并配置三个测量装置,完成晶片上、下、侧表面的缺陷检测。但是,该装置仅适用于单一尺寸的晶圆检测,且定位精度无法保证。因此,在单光源照明方式下,单一尺寸工作台及定位装置,不能满足不同规格、不同缺陷类型的透明或半透明衬底材料的检测需求。
实用新型内容
本实用新型所要解决的主要技术问题是提供一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台。
为了解决上述的技术问题,本实用新型提供了一种带背光照明的衬底缺陷检测用回转工作台,包括:底座、旋转台、圆环形转接板、背光照明装置、圆柱形连接支架和衬底定位装置;
所述旋转台的底端面与底座的上表面形成可拆卸的固定连接;所述旋转台的上表面与所述圆环形转接板连动连接;电机驱动旋转台带动所述圆环形转接板转动;
所述背光照明装置设置在圆环形转接板远离旋转台的一面,并且所述背光照明装置的出光方向为远离所述圆环形转接板的方向;所述背光照明装置远离圆环形转接板的一面通过所述圆柱形连接支架与所述衬底定位装置连接;
所述圆柱形连接支架将背光照明装置的出光照射在圆柱形连接支架内,并阻挡环境光进入圆柱形连接支架内。
在一较佳实施例中:所述衬底定位装置包括多个呈同心圆排列的定位圆环托盘。
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