[实用新型]基于力流变流体的立式轮盘抛光装置的喷淋系统

说明书

本申请的基于力流变流体的立式轮盘抛光装置的喷淋系统包括接水盘(8)、导轨(9)、导水软管(10)以及导轨电机(11)；所述导轨(9)设置在位于抛光槽(18)的顶部与抛光槽(18)配套的工作台面(26)上；所述导轨电机(11)与所述导轨(9)连接，用于驱动导轨(9)；所述接水盘(8)设置在所述导轨(9)上；所述接水盘(8)的底部通过导水软管(10)与蓄水罐(16)相连通；所述接水盘(8)的上方设有喷淋水管(7)；所述喷淋水管(7)和所述导轨电机(11)由控制台(13)控制。

本申请是申请日为2018年5月24日，申请号为201820779362.9，实用新型名称为“基于力流变流体的立式轮盘抛光装置”的实用新型专利申请的分案申请。

技术领域

本申请涉及精密/超精密加工技术，具体涉及基于力流变流体的立式轮盘抛光装置。

背景技术

随着现代科学技术的快速发展，人们对产品的加工质量、加工精度、加工成本和加工效率的要求越来越高，同时对环境保护也提出了一定的要求。现如今一些先进的超精密抛光技术，如磁场辅助抛光、电场辅助抛光、弹性发射加工、化学机械抛光等已成为获得超精密光滑表面的重要加工方法。

磁场辅助抛光方法是利用控制磁场的强弱使磁流体带动磨粒对工件施加压力，从而获得高形状精度、高表面质量的抛光方法，主要包括磁性磨粒加工、磁浮置抛光和磁流变抛光。磁流变抛光具有加工效率较高(加工典型材料如光学玻璃时材料去除率为10μm/min)、加工表面质量高、材料去除特性恒定、加工碎屑实时去除等优点。但是磁流变抛光技术的加工介质(磁性磨粒、磁悬浮液和磁流变液)的制作比较复杂，使用成本较高，且加工设备需要较为复杂的磁辅助装置，制约了这种加工方法的应用。电解抛光和电流变抛光是电场辅助抛光中常用的加工方法，电解抛光利用电解液在工件表面凸起部位电流密度大导致金属溶解较快的原理；电流变抛光是利用电流变液对工件进行抛光，抛光过程中随着外加电场场强的增加电流变液的粘度增加，磨粒被聚集在针状电极附近，形成柔性抛光工具。目前，在金相样品的制备、金属的精加工以及要求金属表面质量高与表面粗糙度高的加工领域，电解抛光得到了广泛的应用，但是这种抛光方法只能应用于某些金属工件，同时需要一套电解装置，且电解液中的六价铬会对环境造成很大的影响。磨粒流抛光是通过载有磨料的黏弹体在压力下反复通过工件表面实现抛光加工，其需要复杂的磨粒流推动系统，且工件抛光效率较低。

抛光液与工件接触部分，因受到力的作用，其流变特性会发生改变,接触范围内抛光液的粘度增大,对磨粒的把持力增强,抛光液中具有抛光作用的磨粒对工件产生微切削作用实现工件表面微凸体材料的去除,从而可以实现对工件表面的精密抛光。但是，目前，尚缺少一种加工效率高、适用范围广、装置结构简单的基于力流变流体的立式轮盘抛光装置。

综上所述，现有的加工设备加工过程复杂、设备成本高，并且很难满足工件高效、高质量、低成本、低污染的抛光要求。

实用新型内容

为克服现有技术中所存在的上述不足，本申请提供了一种基于力流变流体的立式轮盘抛光装置。本申请的基于力流变流体的立式轮盘抛光装置加工效率高、适用范围广，且装置结构简单。同时，本申请也提供了基于力流变流体的立式轮盘抛光装置的喷淋系统。

本申请的基于力流变流体的立式轮盘抛光装置包括底座，底座上设有抛光槽，抛光槽内设有抛光系统；所述抛光系统包括公转轴，公转轴上设有两个在公转轴转动时随公转轴一起转动的公转轮盘，两个公转轮盘之间设有至少一根可相对公转轮盘自转且在公转轮盘转动时随公转轮盘公转的自转轴，自转轴上设有工件夹具；所述公转轴由公转电机驱动；所述自转轴由自转电机驱动。

与现有技术相比，本申请的基于力流变流体的立式轮盘抛光装置通过在抛光槽内设置特定构造的抛光系统，两个公转轮盘之间可以设置多根自转轴，每根自转轴上可以装夹多个工件，可以同时对多个工件进行高效、高加工精度抛光，且可抛光各种面型工件，比如平面、弧面、球面或复杂曲面，适用范围广，尤其适于加工中空类工件。