[实用新型]介质残留检测结构、暂存装置及介质处理机

权利要求书

1.一种介质残留检测结构，其特征在于，包括第一检测传感器及滚筒组，所述滚筒组包括转轴、第一滚筒、及同轴设置于所述第一滚筒两侧的第二滚筒与第三滚筒，所述转轴固定在安装架上，所述第一滚筒的第一端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第一滚筒柱，所述第一滚筒的第二端面设有沿所述第一滚筒的轴向延伸的多个第二滚筒柱，所述第一滚筒柱与所述第二滚筒柱对称设置，相邻的所述第一滚筒柱及相邻的所述第二滚筒柱之间形成用于供所述第一检测传感器的第一检测信号通过的检测空间。

2.如权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一检测传感器包括设置于所述安装架上的发射部及接收部，所述发射部发射的所述第一检测信号可经由所述检测空间被所述接收部接收。

3.如权利要求2所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构包括两组所述第一检测传感器，一组所述第一检测传感器的第一检测信号可由相邻的所述第一滚筒柱之间形成的检测空间通过，另一组所述第一检测传感器的第一检测信号可由相邻的所述第二滚筒柱之间形成的检测空间通过。

4.如权利要求2所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括第二检测传感器，所述第二检测传感器用于检测所述第一检测信号是否穿过所述检测空间。

5.如权利要求4所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括遮光部，所述遮光部与所述第一滚筒柱及所述第二滚筒柱一一对应地设置于所述滚筒组上，所述遮光部与所述第一滚筒柱及所述第二滚筒柱存在预设相位差，所述遮光部遮挡所述第二检测传感器的第二检测信号时，所述第一检测信号可穿过所述检测空间。

6.如权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第二滚筒及所述第三滚筒分别可拆卸地连接在所述第一滚筒上。

7.如权利要求6所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括用于将所述第一滚筒与所述第二滚筒连接的第一连接部，所述第一连接部与所述第一滚筒柱之间形成用于供第一检测信号通过的环形空间，所述第一连接部由所述第一端面向所述第二滚筒延伸，或由所述第二滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面向所述第一滚筒延伸，对应地，所述第二滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面或所述第一端面设有与所述第一连接部的相适配的第一插接孔。

8.如权利要求7所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括用于将所述第一滚筒与所述第三滚筒连接的第二连接部，所述第二连接部由所述第二端面向所述第三滚筒延伸，或由所述第三滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面向所述第一滚筒延伸，对应地，所述第三滚筒靠近所述第一滚筒的一端端面或所述第二端面设有与所述第二连接部相适配的第二插接孔。

9.如权利要求8所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一连接部及所述第二连接部与所述第一滚筒连接部分的横截面为弓形。

10.如权利要求9所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述介质残留检测结构还包括用于限制所述第一滚筒与所述第二滚筒中的至少一个相对于所述转轴转动的连接件。

11.如权利要求10所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一连接部与所述第二滚筒之间设有第一固定部，所述第二连接部与所述第三滚筒之间设有第二固定部，所述连接件分别穿过所述第一固定部及所述第二固定部与所述转轴连接，以限制所述第二滚筒及第三滚筒相对所述转轴旋转。

12.如权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一滚筒柱的端面与所述第二滚筒的端面抵接，所述第二滚筒柱的端面与所述第三滚筒的端面抵接。

13.如权利要求1所述的介质残留检测结构，其特征在于，所述第一端面或所述第二端面上设有用于指示所述第一滚筒的安装方向的指示部。