[实用新型]真空室装置

权利要求书

1.一种真空室装置，其特征在于，具有：

真空室；

至少一个处理区域，其布置在所述真空室中；以及

基板保持装置，其用于在所述处理区域中输送和/或定位基板或多个基板，

其中所述基板保持装置包括：

具有第一基板保持件的第一驱动机构，其中所述第一基板保持件被构造为可旋转地保持一个或多个基板；

具有第一支撑臂的第二驱动机构，其中所述第一基板保持件由所述第一支撑臂可旋转地保持；

具有第二基板保持件的第三驱动机构，其中所述第二基板保持件被构造为可旋转地保持一个或多个基板；以及

具有第二支撑臂的第四驱动机构，其中所述第二基板保持件由所述第二支撑臂可旋转地保持，并且

其中，所述第一、第二、第三和第四驱动机构各自被构造为能够被相互独立地控制或驱动。

2.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述处理区域具有处理设备的部分，所述处理设备被构造为用于在一个基板或多个基板上沉积材料的涂覆设备。

3.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述第一支撑臂和所述第二支撑臂安装为能够移动，特别是安装为能够彼此独立地旋转。

4.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述真空室具有第一供给给送件，并且

其中所述基板保持装置具有用于将至少一种供给介质供给到所述基板保持件的真空密封供给壳体，其中所述供给壳体具有第二供给给送件，并且所述第一供给给送件借助于供给软管连接到所述第二供给给送件。

5.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述第二驱动机构和所述第四驱动机构各自具有驱动设备和连接到所述驱动设备的机械联接元件，并且所述机械联接元件被构造为将用于使所述基板保持件旋转的所述驱动设备的驱动动力传送到所述基板保持件。

6.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述第一驱动机构和所述第三驱动机构各自具有驱动设备和与所述驱动设备连接的机械联接元件，并且所述机械联接元件被构造为将用于使所述支撑臂枢转的所述驱动设备的驱动动力传送到所述支撑臂。

7.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述第一驱动机构和所述第三驱动机构各自具有第一驱动设备，并且

其中，所述第二驱动机构和所述第四驱动机构各自具有与所述第一驱动设备不同的第二驱动设备。

8.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

其中，所述第一、第二、第三和第四驱动机构各自具有驱动设备，并且其中所述基板保持装置被构造为使得所述第一、第二、第三和第四驱动机构的驱动设备布置在所述真空区域外部。

9.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

所述第一和第二支撑臂以及第一和第二基板保持件布置在所述真空区域中。

10.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于，

还具有安装装置，借助于所述安装装置，所述基板保持装置能够移动地安装在所述真空室内。

11.根据权利要求1所述的真空室装置，其特征在于

还具有控制设备，其连接到所述第一、第二、第三和第四驱动机构，并且所述控制设备被构造为控制所述第一和第二支撑臂以及所述第一和第二基板保持件的移动。

12.根据权利要求11所述的真空室装置，其特征在于

所述控制设备被构造为使得所述第一支撑臂和所述第二支撑臂能够围绕共同的旋转轴线沿相同的旋转方向旋转。