[实用新型]一种真空吸盘

权利要求书

1.一种真空吸盘，其特征在于：包括盘体（1），所述盘体（1）上设有负压吸引接口（2），所述盘体（1）的底面为负压吸引面（3），且所述负压吸引面（3）上设有若干负压吸引凹槽（4），每一道所述负压吸引凹槽（4）的槽底均设有至少一个轴线与所述负压吸引面（3）垂直并与负压吸引接口（2）相连通的负压吸孔（5），且所述盘体（1）上还与所述负压吸孔（5）一一对应设有用于控制所述负压吸孔（5）通断的通断控制机构。

2.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于：所述负压吸引凹槽（4）首尾相连通。

3.根据权利要求2所述的真空吸盘，其特征在于：所述负压吸引凹槽（4）的中心线呈圆形或方向或正多边形，且所述负压吸引凹槽（4）并沿着所述负压吸引面（3）由内至外间隔设置。

4.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于：所述负压吸引凹槽（4）为长条状并沿着所述负压吸引面（3）的一端到另一端间隔设置。

5.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于：所述负压吸引面（3）上设有负压密集区，所述负压吸引凹槽（4）在所述负压密集区内所占的面积比例大于所述负压吸引凹槽（4）在所述负压吸引面（3）的其他区域内所占的面积比例。

6.根据权利要求1-5任一项所述的真空吸盘，其特征在于：所有的所述负压吸孔（5）的轴线均与所述负压吸引接口（2）的轴向垂直相交。

7.根据权利要求6所述的真空吸盘，其特征在于：所述盘体（1）内设有与所述负压吸引接口（2）同轴并与所有的所述负压吸孔（5）相连通的横向连通孔（6）。

8.根据权利要求1-5任一项所述的真空吸盘，其特征在于：所述负压吸孔（5）包括位于上端大径段（5a）和位于下端的小径段（5b），所述大径段（5a）的内径大于所述小径段（5b）的内径，且所述大径段（5a）内与其过盈配合设有密封垫圈（7），所述密封垫圈（7）上设有与所述负压吸孔（5）同轴的通孔（7a），且所述密封垫圈（7）的上端面设有内径大于所述通孔（7a）的球面（7b）。

9.根据权利要求8所述的真空吸盘，其特征在于：所述通断控制机构包括固定安装在所述盘体（1）上且轴线与对应的所述负压吸孔（5）的轴线同轴的气缸（10），所述气缸（10）的活塞杆上连接设有外径与所述球面（7b）相等的密闭球（8），所述气缸（10）的缸体与所述盘体（1）之间设有至少一道密封圈（9）。

10.根据权利要求1-5任一项所述的真空吸盘，其特征在于：所述通断控制机构为与所述负压吸孔（5）配合的堵头。