[实用新型]平面镜片的偏心研抛装置有效

专利信息
申请号: 201821584687.8 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN208801156U 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 熬雪梅;袁巨龙;陈芝向;张万辉 申请(专利权)人: 杭州智谷精工有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B13/005;B24B57/02;B24B47/12
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 陈振华
地址: 311121 浙江省杭州市余杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 平面镜片 上研磨盘 下研磨盘 操作台 偏心 研抛装置 保持架 加长杆 内齿轮 星轮式 联接 加压 啮合 抛光液回收槽 本实用新型 表面划伤 偏心放置 偏心设置 上端固定 上下表面 上限位器 液回收槽 有效解决 注液通道 研磨 侧表面 活塞杆 外齿轮 研磨孔 内圈 气缸 下端
【说明书】:

平面镜片的偏心研抛装置,包括下研抛机构以及上研抛机构;上研抛机构包括加压机架,加压机架上设有气缸,活塞杆从与加长杆上端固定联接,加长杆下端与上研磨盘联接;上研磨盘设有注液通道,上研磨盘侧表面设有外齿轮;下研抛机构包括操作台,操作台上设有抛光液回收槽,研抛液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘上偏心放置有保持环,保持环内圈设有内齿轮,保持环受到固定在操作台上限位器的限制,保持环内放置有与内齿轮完全啮合的游星轮式保持架,游星轮式保持架上设有研磨孔;上研磨盘相对于下研磨盘偏心设置在其上方。本实用新型有效解决了平面镜片表面划伤的问题,且研抛效率高,获得的平面镜片上下表面一致性更好,研磨更加均匀。

技术领域

本实用新型涉及超精密加工装置,特别是平面镜片的偏心研抛装置。

背景技术

超精密加工技术是现代高技术战争的重要支撑技术,是现代制造科学的发展方向。以手机为例来说,手机的更新换代速度和普及程度都是前所未有的,“低头族”一词的出现也进一步反映手机在人们日常生活的重要程度。较大的平面镜片可以作为触摸屏,小的则可以作为摄像头,平面镜片不只是手机中很重要的一部分,也广泛地应用在其他产品上,平面镜片是现代超精密加工的主要对象之一。

目前,针对平面镜片的研抛装置市面上应用最普遍的是同心式的端面研抛装置,此类装置的优点在于,两平面和待加工工件的表面接触充分,研磨抛光的效率高,一次性加工的工件的数量多,结构常规简单易于实施。但是此类装置的弊端也很明显,其下研磨盘往往较大,就造成了虽然下研磨盘上内外圈角速度一样但线速度存在较大差异,内圈线速度小导致内圈处材料去除率差,从而出现了外圈的平面镜片已完成加工而圆心处的平面镜片却处于半成品状态的情况。偏心式的研抛装置可以有效规避掉上述问题,但偏心式的研抛装置受离心力作用,加工时平面镜片受离心力作用会发生水平横移,导致平面镜片表面会产生划伤,对于光学镜片而言,划伤是更严重的问题;同时研抛工具的转速不能太高,限制了研抛效率。

另一方面,目前大部分研抛装置上研磨盘是从动机构,即通过摩擦力转动,下研磨盘转动带动上研磨盘转动。此结构的缺点在于,摩擦力会随着时间发生改变,从而导致上研磨盘的从动速度跟着变化,上下研磨盘的速度不一致,平面镜片的上下表面的研磨程度也存在着差异,从而影响平面镜片的光学性质。而在上研磨盘上设置动力源驱动,导致机构复杂,不易实施。综上所述,平面镜片的研抛装置结构存在着很大的改进空间。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供平面镜片的偏心研抛装置。本实用新型有效地解决了传统偏心研抛装置会造成平面镜片表面划伤的问题,同时可以提高研抛工具的转速,提高研抛效率;并且本实用新型的上下研磨盘以及工件做匀速的旋转运动,使平面镜片上下表面一致性更好,研磨更加均匀。

本实用新型的技术方案:平面镜片的偏心研抛装置,包括下研抛机构以及上研抛机构;所述上研抛机构包括加压机架,加压机架上设有气缸,活塞杆从气缸内伸出并穿过加压机架,其下端与加长杆的上端固定联接,加长杆下端通过轴承与上研磨盘联接;所述上研磨盘设有若干连通其上下表面的注液通道,所述上研磨盘的侧表面设有外齿轮;所述下研抛机构包括操作台,操作台上设有抛光液回收槽,抛光液回收槽的底部设有排液口;所述研抛液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘与设于其下方的电机连接;所述下研磨盘上偏心放置有保持环,所述保持环内圈设有内齿轮,所述保持环受到固定在所述操作台上限位器的限制,保持环内放置有与所述内齿轮完全啮合的游星轮式保持架;所述游星轮式保持架上设有研磨孔;所述研磨孔的大小和形状与待加工工件相对应;所述上研磨盘相对于下研磨盘偏心设置在其上方。

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