[实用新型]一种水处理装置有效

专利信息
申请号: 201821584865.7 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN209065680U 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 权秋红;赵庆;王志稳;高晓博 申请(专利权)人: 倍杰特集团股份有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 何志欣;侯越玲
地址: 100076 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 曝气管 单孔膜曝气器 臭氧接触池 水处理装置 承托层 出气孔 进水箱 上管夹 填料层 通气孔 下管夹 管体 集装箱 本实用新型 外界连通 依次连通 固定盖 清水区 清水箱 阀门 卡合 膜片 内腔 曝气 上管 微生物 连通
【权利要求书】:

1.一种水处理装置,其为一个集装箱,所述集装箱至少包括设置在其内的对城市中水进行预氧化的臭氧接触池(2)、进水箱(3)、对城市中水进行曝气和生物膜处理的BAF池(1)、清水箱(4)、用于将所述臭氧接触池(2)、所述进水箱(3)、所述BAF池(1)和所述清水箱(4)依次连接的若干管道以及设置在所述管道上的若干阀门,其特征在于,

所述BAF池(1)由上而下依次设有清水区(1c)、填料层(1a)和承托层(1b),其中,所述填料层(1a)内设有用于氧化分解水中污染物的微生物;

所述承托层(1b)的下方设有不在同一高度的第一曝气管(9a)和第二曝气管(9b),所述第一曝气管(9a)和/或所述第二曝气管(9b)的管体上设有和所述第一曝气管(9a)和/或所述第二曝气管(9b)连通的并且按照向上进行曝气的方式设置的若干单孔膜曝气器(7),其中,

所述单孔膜曝气器(7)至少包括上管夹(71)、下管夹(72)、出气孔(75)、通气孔(76)、固定盖(77)、设置在所述上管夹(71)上的凹槽(78)、设置在所述凹槽(78)内的膜片(73)以及设置在所述膜片(73)上的曝气孔(74),在所述上管夹(71)和所述下管夹(72)以彼此卡合的方式固定在所述第一曝气管(9a)和/或所述第二曝气管(9b)的管体周围的情况下,所述出气孔(75)、所述曝气孔(74)和所述通气孔(76)依次连通使得所述第一曝气管(9a)和/或所述第二曝气管(9b)的内腔和外界连通。

2.如权利要求1所述的水处理装置,其特征在于,设置有曝气风机(41)和消音器(6)的进气管(26),在靠近所述BAF池(1)的一段设置有并联的进气管第一分管(26a)和进气管第二分管(26b),所述进气管第一分管(26a)和所述进气管第二分管(26b)分别与所述第一曝气管(9a)和所述第二曝气管(9b)连接。

3.如权利要求2所述的水处理装置,其特征在于,所述臭氧接触池(2)的左侧下部进水口与主进水管(21)连接,所述臭氧接触池(2)的右侧上部出水口通过第一管道(22)与所述进水箱(3)的顶部连接,所述进水箱(3)的右侧下部出水口与第二管道(23)连接,所述第二管道(23)的中间一段设置有并联的第二管道第一分管(23a)和第二管道第二分管(23b),所述第二管道第一分管(23a)和所述第二管道第二分管(23b)上分别设置有第一进水泵(42a)和第二进水泵(42b),所述BAF池(1)的左侧下部进水口与所述第二管道(23)连接,所述BAF池(1)的右侧上部出水口与所述清水箱(4)的顶部连接,所述清水箱(4)的右侧下部出水口与主出水管(25)连接。

4.如权利要求3所述的水处理装置,其特征在于,所述臭氧接触池(2)的右侧下部进气口通过设置有臭氧风机(45)的臭氧进气管(35)与臭氧瓶(5)连接,其中,所述臭氧进气管(35)贯穿所述臭氧接触池(2)的右侧本体后延伸至靠近所述臭氧接触池(2)的左侧下部进水口的位置。

5.如权利要求4所述的水处理装置,其特征在于,所述臭氧接触池(2)还包括导流器(2a)和至少一个支撑板(2b),至少一个所述支撑板(2b)固定在所述臭氧接触池(2)的内侧壁上,以使得所述导流器(2a)按照能够置于所述支撑板(2b)上的方式设置在所述臭氧接触池(2)内,

所述导流器(2a)由相互之间平行设置的平板组成,使得所述导流器(2a)具有能够使所述臭氧接触池(2)中的气体和/或液体在向上流动的过程中形成左右来回流动的气流和/或液流的特性。

6.如前述权利要求之一所述的水处理装置,其特征在于,所述BAF池(1)的右侧下部与设置有反冲洗风机(43)的反冲洗气管(27)连接,并且连接点位于所述承托层(1b)的下方。

7.如前述权利要求之一所述的水处理装置,其特征在于,所述BAF池(1)的右侧下部通过设置有反冲洗泵(44)的反冲洗水管(28)与所述清水箱(4)的左侧下部出水口连接,并且BAF池(1)的连接点位于所述承托层(1b)的下方。

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