[实用新型]一种反射式太赫兹时域光谱成像系统

权利要求书

1.一种反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，包括：

激光器和光谱仪；所述光谱仪设置在所述激光器的输出端；

所述光谱仪包括：第一层光谱仪和第二层光谱仪；所述第二层光谱仪设置在所述第一层光谱仪的顶部；所述第一层光谱仪包括：延时单元和偏振分束单元；所述第二层光谱仪包括：太赫兹波产生单元和样品测试单元；所述偏振分束单元设置在所述激光器的输出端，用于将所述激光器发射的激光分成泵浦光和探测光，依次沿第一光路和第二光路射出；沿所述第一光路依次设有所述太赫兹波产生单元和所述样品测试单元；沿所述第二光路设有延时单元，所述第二光路的出口端设置在所述太赫兹波产生单元和所述样品测试单元之间。

2.根据权利要求1所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，所述太赫兹波产生单元包括：二分之一波片、第一聚焦透镜、光电导天线、第一抛物面镜、第一高阻硅片；所述二分之一波片、所述第一聚焦透镜、所述光电导天线、第一抛物面镜和所述第一高阻硅片依次沿所述第一光路设置。

3.根据权利要求1所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，所述第二层光谱仪还包括：探测单元；所述探测单元沿所述第一光路的支路设置，所述支路的入口端设置在所述太赫兹波产生单元和所述样品测试单元之间。

4.根据权利要求3所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，所述探测单元包括：第二抛物面镜、第二高阻硅片、探测晶体、第四聚焦透镜和探测器；所述第二抛物面镜、所述第二高阻硅片、所述探测晶体、所述第四聚焦透镜和所述探测器依次沿所述支路设置。

5.根据权利要求4所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，所述第二光路的出口端设有偏振片和第二聚焦透镜，所述延时单元依次通过所述偏振片和所述第二聚焦透镜与所述支路连通。

6.根据权利要求1所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，所述样品测试单元包括：第三聚焦透镜和平移台；所述第三聚焦透镜沿所述第一光路，设置在所述太赫兹波产生单元的出口端，且待测目标固定在所述平移台上。

7.根据权利要求1所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，沿所述第一光路和所述第二光路上设有多个反射镜。

8.根据权利要求1所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，还包括：温湿度计，所述温湿度计设置在所述第二层光谱仪内，用于测量所述光谱仪内的温度与湿度。

9.根据权利要求1所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，还包括：电源和电路控制器；所述电源的输出端通过所述电路控制器与所述光谱仪电连接，所述电源的另一输出端与所述激光器电连接。

10.根据权利要求2所述的反射式太赫兹时域光谱成像系统，其特征在于，所述激光器为光纤飞秒激光器，所述光电导天线为砷化镓基底天线。