[实用新型]乳化设备的液位控制器有效
申请号: | 201821592545.6 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN209254569U | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 李贺 | 申请(专利权)人: | 上海百雀羚生物科技有限公司 |
主分类号: | B01F7/18 | 分类号: | B01F7/18;B01F3/08;B01F13/06;B01F15/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 褚明伟 |
地址: | 200040 上海市静安*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 乳化锅 液位传感器 液位控制器 抽真空系统 本实用新型 外部 反馈信号 乳化设备 真空管道 自清洗 操作稳定性 间歇式冲洗 位传感器 液位位置 接收液 启闭 液面 | ||
本实用新型涉及一种乳化设备的液位控制器,设置在乳化锅内,所述乳化锅上方设置有真空管道,所述真空管道与外部抽真空系统连接,所述液位控制器包括设置在乳化锅上方的液位传感器,所述液位传感器与设置在乳化锅外部的PLC控制器连接,所述PLC控制器与外部抽真空系统连接,所述液位传感器用于感应液位位置,并向PLC控制器反馈信号,所述PLC控制器接收液位传感器反馈信号,并控制外部抽真空系统的启闭;所述液位控制器还包括设置在乳化锅上方的自清洗元件,所述自清洗元件用于对液位传感器进行间歇式冲洗。与现有技术相比,本实用新型自动控制液面高度,提高乳化锅的操作稳定性。
技术领域
本实用新型涉及一种液位控制装置,尤其是涉及一种乳化设备的液位控制器。
背景技术
目前,乳化设备普遍应用于化妆品、制药、催化剂等行业。在生产过程中,真空过大会导致液位急剧上升,现主要依靠人工控制,液位上升极快,人工控制的及时性很难保证,从而使料体进入真空系统,导致以下几方面弊端:
1.物料的损失;
2.真空泵、管道等系统部件的堵塞,难于清洗;
3.真空管道中的料体残留导致的微生物风险。
从而直接影响产品质量,也影响到生产效率。
中国专利CN205252954U公布了一种高速乳化罐,包括罐体和罐顶锥封头以及罐底锥封头,所述的罐顶锥封头上开设有进料口,罐底锥封头底部开设有转动轴孔,罐底锥封头底部侧壁上开设有与转动轴孔相连通的出料口,转动轴孔处安装有乳化装置,乳化装置包括位于转动轴孔内且用于搅拌物料的乳化头、与乳化头相连接的联轴器、与联轴器相连接的转向箱以及用于驱动转向箱的电机,出料口位于乳化头下方。该装置设置低电极式液位计控制液位,但是上述液位控制没有反馈功能,不具有液位控制能力。
实用新型内容
本实用新型的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种乳化设备的液位控制器。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现:
一种乳化设备的液位控制器,设置在乳化锅内,所述乳化锅上方设置有真空管道,所述真空管道与外部抽真空系统连接,
所述液位控制器包括设置在乳化锅上方的液位传感器,所述液位传感器与设置在乳化锅外部的PLC控制器连接,所述PLC控制器与外部抽真空系统连接,所述液位传感器用于感应液位位置,并向PLC控制器反馈信号,
所述PLC控制器接收液位传感器反馈信号,并控制外部抽真空系统的启闭,进行控制乳化锅内部的真空,进而控制乳化锅内液位上升速度,从而阻止料体由于过高液位而进入到真空管道及外部抽真空系统;
所述液位控制器还包括设置在乳化锅上方的自清洗元件,所述自清洗元件用于对液位传感器进行间歇式冲洗。
进一步说,所述液位传感器为浮球液位传感器,包括浮球感应器、位于浮球感应器上方的上限位开关、位于浮球感应器下方的下限位开关,所述浮球感应器碰到上限位开关或下限位开关时会向PLC控制器反馈信号。
所述浮球感应器会随着液位的上升而上升,随着液位的下降而下降所述浮球感应器的上升或下降,来感应到液位所在的位置,当浮球感应器碰到上限位开关时,表明乳化锅内部的液位过高,此时浮球感应器会输出一个指令给PLC控制器,PLC控制器控制外部抽真空系统关闭,进而降低控制乳化锅内部的真空,进而控制乳化锅内液位上升速度,从而阻止料体由于过高液位而进入到真空管道及外部抽真空系统;
当浮球感应器碰到下限位开关时,表明乳化锅内部的液位过低,此时浮球感应器会输出一个指令给PLC控制器,PLC控制器控制外部抽真空系统开启,进而升高控制乳化锅内部的真空,促进控制乳化锅内液位上升。
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