[实用新型]一种DMD倾斜扫描的3D打印装置有效

专利信息
申请号: 201821592880.6 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN209037030U 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 胡益铭;周金运 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: B29C64/264 分类号: B29C64/264;B29C64/393;B29C64/129;B29C64/245;B33Y30/00;B33Y50/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 林丽明
地址: 510006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 扫描系统 位移平台 三轴运动控制器 输出端连接 打印 本实用新型 成型物体 打印装置 点阵列 曝光面 计算机 期望 成型 扫描 幅面 扫描曝光 一次成型 重复打印 曝光 光固化 输入端 线条 图案
【说明书】:

本实用新型公开一种DMD倾斜扫描的3D打印装置,包括计算机,DMD倾斜扫描系统,位移平台和三轴运动控制器,其中,所述的计算机的第一输出端连接DMD倾斜扫描系统;所述的计算机的第二输出端连接三轴运动控制器的输入端,三轴运动控制器的输出端连接位移平台;所述的DMD倾斜扫描系统固定于位移平台之上。首先位移平台做好曝光准备,其次DMD倾斜扫描系统生成一组倾斜点阵列,最后倾斜点阵列上的亮点之间的重叠曝光产生线条或图案,并进行光固化,完成一层曝光面;逐层完成曝光面,最终成型为期望物体。本实用新型采用扫描曝光成型,能够在一次成型过程中打印大幅面积的期望成型物体,提高了打印效率,也能够在单个幅面重复打印多个期望成型物体,增大了单幅打印的面积。

技术领域

本实用新型涉及3D打印领域,更具体地,涉及一种DMD倾斜扫描的3D打印装置。

背景技术

DLP(Digital light processing,数字光处理)技术于1993年由美国TI公司发明,DLP技术的核心是DMD芯片。基于DMD扫描的3D打印具有材料利用率高,成型速度快,无活动喷头,免去其他技术常见的阻塞和失准等优点。基于DMD扫描的3D打印大部分采用直接面曝光成型,直接面曝光操作简易,成型速度快,但受到DMD芯片的限制,无法在一次成型过程中打印大幅面积的期望成型的物体,无法在单个幅面重复打印多个期望成型的物体。例如,基于DMD扫描的3D打印机能够打印一个完好精细的戒指,而且速度很快。然而,如果需要一次打印许多精细的戒指,就需要提出新的打印装置,才能够在整个打印区域中保持一致的高分辨率。

实用新型内容

本实用新型为解决现有技术中基于DMD扫描的3D打印无法在一次成型过程中打印大幅面积的期望成型的物体,无法在单个幅面重复打印多个期望成型的物体等问题,提供一种DMD倾斜扫描的3D打印装置。

为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案如下:

一种DMD倾斜扫描的3D打印装置,其特征在于:包括计算机,DMD倾斜扫描系统,位移平台和三轴运动控制器,其中,所述的计算机的第一输出端连接DMD倾斜扫描系统;所述的计算机的第二输出端连接三轴运动控制器的输入端,三轴运动控制器的输出端连接位移平台;所述的DMD倾斜扫描系统固定于位移平台之上,DMD倾斜扫描系统、位移平台均由所述的计算机控制。

进一步地,所述的DMD倾斜扫描系统包括光源、反光镜、DMD芯片和物镜组,其中,所述的光源、反光镜和DMD芯片构成反射回路;所述的光源发出的均匀光路经过反光镜反射到DMD芯片,再经过物镜组生成一组倾斜的倾斜点阵列,所述的倾斜点阵列投影到位移平台上。

进一步地,所述的物镜组包括第一物体平面、第一成像平面、微透镜和空间滤波器阵列、第二物体平面、点阵列、投影面、第一镜头和第二镜头,其中,所述的第一物体平面固定于DMD芯片的反射面;所述的第一镜头固定于微透镜和空间滤波器阵列的上端面之上;所述的第二镜头固定于微透镜和空间滤波器阵列的下端面之下;所述的微透镜和空间滤波器阵列的上端面固定有第一成像平面,微透镜和空间滤波器阵列的下端面固定有第二物体平面;所述的投影面固定于第二镜头的下方,投影面上固定有点阵列;经DMD芯片反射的光束依次经过第一物体平面、第一镜头、第一成像平面、微透镜和空间滤波器阵列、第二物体平面、第二镜头和点阵列,最终将生成的倾斜点阵列投影到投影面上。

进一步地,所述的位移平台包括液槽、刮板、工作台、工作箱、弹簧和升降台,其中,所述的液槽用于盛载光敏树脂材料;所述的工作箱、弹簧和升降台均位于液槽内,工作箱和升降台通过若干根弹簧连接;所述的工作台的上端面设置有刮板,工作台固定在液槽的开口处;所述的升降台连接三轴运动控制系统;所述的DMD倾斜扫描系统生成的倾斜点阵列投影到工作箱上。

进一步地,所述的位移平台还包括电源,所述的电源设置在三轴运动控制器上,用于控制弹簧的伸缩。

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