[实用新型]一种高效真空磁控溅射设备

说明书

本实用新型提供了一种高效真空磁控溅射设备，包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有下遮挡板，下遮挡板上设有若干第一导粉通孔，下遮挡板的下方设有粉末收集盒，粉末收集盒内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括第二导粉通孔和第三导粉通孔，粉末清除机构还包括除粉擦，除粉擦的下表面与下遮挡板的上表面相贴合，除粉擦的下方设有驱动除粉擦沿第一导粉通孔的长度方向往复直线运动的驱动机构。本实用新型通过除粉擦将落在下遮挡板上的粉末状颗粒扫入到粉末收集盒中，大大减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率。

技术领域

本实用新型属于玻璃镀膜技术领域，具体涉及一种高效真空磁控溅射设备。

背景技术

真空溅射镀膜是利用靶材发生溅射，使溅射物附着在工件表面形成膜层，即达到镀膜，磁控溅射镀膜机是常见的真空溅射镀膜设备。真空磁控溅射时，基板和靶材正对间隔放置在真空溅射室中，在基板和靶材的四周围设有遮挡板，遮挡板遮挡住从靶材上溅射出来的靶材粒子，防止靶材粒子溅射到真空溅射室的内壁。

靶材粒子不断地在遮挡板的表面沉积，形成粉末状的颗粒。由于重力的作用，位于靶材下方的遮挡板上积累的粉末状颗粒尤其多。为避免遮挡板上沉积过多的靶材粒子，在使用一段时间后需要打开真空溅射室对遮挡板进行清洁或者定期更换遮挡板，操作繁琐，在此期间磁控溅射设备无法使用，设备稼动率较低。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型旨在提出一种高效真空磁控溅射设备，该设备可以减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种高效真空磁控溅射设备，包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有上遮挡板，靶材的下方设有下遮挡板，靶材的两侧设有侧遮挡板，下遮挡板上设有若干截面呈长方形且相互平行的第一导粉通孔，下遮挡板的下方设有粉末收集盒，粉末收集盒内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括设于下遮挡板上且相互平行的第二导粉通孔和第三导粉通孔，第二导粉通孔长度方向与第一导粉通孔的长度方向相垂直，第二导粉通孔位于第一导粉通孔的一端，第三导粉通孔位于第一导粉通孔的另一端，第二导粉通孔、第三导粉通孔均与各第一导粉通孔相连通，粉末清除机构还包括除粉擦，除粉擦与第一导粉通孔一一对应，除粉擦的下表面与下遮挡板的上表面相贴合，除粉擦的下方设有驱动除粉擦沿第一导粉通孔的长度方向在第二导粉通孔与第一导粉通孔之间往复直线运动的驱动机构。

进一步的，驱动机构包括若干移动分杆和一个连接各移动分杆的移动总杆，移动分杆与除粉擦一一对应，移动分杆的上端穿过第一导粉通孔与除粉擦固定连接，移动分杆的下端位于粉末收集盒内，移动总杆与移动分杆的下端固定连接，粉末收集盒的外壁上设有气缸，气缸的伸缩杆穿过粉末收集盒的侧壁与移动总杆固定连接以驱动移动总杆沿第一导粉通孔的长度方向往复直线运动。

进一步的，第一导粉通孔共有六个，第一导粉通孔的长度方向与下遮挡板的宽度方向相同。

进一步的，第一导粉通孔的横截面呈上大下小的梯形，移动分杆的直径小于第一导粉通孔的最下端的宽度。

进一步的，各除粉擦位于同一条直线上，相邻的除粉擦之间无间隙，除粉擦的下表面设有刷毛。

进一步的，上遮挡板的内表面均匀分布有多个尖刺状的凸起。

进一步的，粉末收集盒的材质为透明的亚克力板。

相对于现有技术，本实用新型所述的高效真空磁控溅射设备具有以下优势：

(1)本实用新型所述的高效真空磁控溅射设备，通过除粉擦将落在下遮挡板上的粉末状颗粒扫入到粉末收集盒中，大大减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率；