[实用新型]离子源和等离子体处理设备有效
申请号: | 201821602289.4 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN208970478U | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J37/30;H01J37/317 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子源 等离子体 环形腔体 等离子体处理设备 本实用新型 环形磁芯 径向截面 出气管 反应腔 进气管内壁 内壁光滑 腔体内壁 射频电源 环形腔 进气管 热传导 热通量 无棱角 棱角 内壁 光滑 环绕 体内 保证 | ||
1.一种离子源,其特征在于,包括:
反应腔,包含一环形腔体,所述环形腔体上设置有进气管和出气管,所述进气管和出气管均与所述环形腔体相通;所述环形腔体内壁的径向截面为圆形,所述进气管内壁和所述出气管内壁的径向截面均为椭圆形,且所述进气管和出气管的内壁与所述环形腔体的内壁光滑过渡;
环形磁芯,环绕于所述环形腔体上;
射频电源,与所述环形磁芯电连接。
2.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,所述进气管或出气管内壁的椭圆形长轴的长度小于或等于所述环形腔体的圆形内径的1.3倍,短轴的长度大于或等于所述环形腔体的圆形内径的0.8倍。
3.根据权利要求2所述的离子源,其特征在于,所述进气管、出气管和环形腔体为一体成型结构。
4.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,所述反应腔内壁具有导热层。
5.根据权利要求4所述的离子源,其特征在于,所述导热层包括紫外光固化涂层。
6.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,还包括:
导热板,包覆于所述反应腔外壁。
7.根据权利要求6所述的离子源,其特征在于,所述导热板外壁具有耐高温层。
8.根据权利要求7所述的离子源,其特征在于,还包括:
冷却板,包覆于所述导热板外壁。
9.根据权利要求8所述的离子源,其特征在于,所述冷却板包括相互绝缘的第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板和第二冷却板连接至所述射频电源的两极。
10.根据权利要求9所述的离子源,其特征在于,所述第一冷却板和第二冷却板之间通过绝缘材料连接为一体。
11.根据权利要求10所述的离子源,其特征在于,所述绝缘材料为陶瓷。
12.根据权利要求1所述的离子源,其特征在于,所述射频电源为脉冲频率调制的射频电源。
13.根据权利要求12所述的离子源,其特征在于,所述射频电源包括并联式谐振电容器。
14.一种等离子体处理设备,其特征在于,包括:
权利要求1-13中任一项所述的离子源。
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