[实用新型]一种自平衡式精馏分布器

说明书

本实用新型提供了一种自平衡式精馏分布器，包括进液管、分配盘和设置于分配盘上的若干降液管，所述降液管的一侧开设有降液槽。所述降液槽的开设位置均为降液管靠近所述分配盘中心的一侧侧壁。相对于现有技术，本实用新型所述的自平衡式精馏分布器具有以下优势：本实用新型的精馏分布器是在原来盘式分布器的基础上改造而成，具有分布效果好，连续强的特点。其结构特点是随着进塔液量的增加，分布器盘的液面上升，分布器的降液管上开有降液槽，随着液面的上升，降液槽的设置使得降液管的液体流通面积加大，流量增加，达到自平衡调节的效果，增强了分布器的均匀性和连续性。

技术领域

本实用新型涉及化工、制药等生产中气液传质设备中的气液分布的技术领域，尤其是涉及一种自平衡式精馏分布器。

背景技术

填料塔是塔内填料作为气液两相接触构件的传质设备。工作时液体从塔顶经布液器均匀分布在填料上，并沿填料表面下行。气体从塔底送入，在塔内沿填料内孔隙上升，填料表面气液两相接触，完成传质过程。在此过程中，液体的分布起着重要的作用，如出现偏流或间断，将直接影响塔的传质效果。现有工艺大多是在降液管上开孔，不能保证孔中心在同一平面内，降液存在不连续不均匀等问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型旨在提出一种自平衡式精馏分布器，以解决现有技术存在的问题。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种自平衡式精馏分布器，包括进液管、分配盘和设置于分配盘上的若干降液管，所述降液管的一侧开设有降液槽。

进一步的，所述降液槽的开设位置均为降液管靠近所述分配盘中心的一侧侧壁。

进一步的，所述降液槽的底部距离所述分配盘底板距离为30～40mm。

进一步的，所述分配盘的中心处设有一集液管，集液管与所述分配盘同心设置，其底部通过支撑腿固定在所述分配盘的底板上。

进一步的，所述集液管的顶部高出所述分配盘，且所述进液管伸入所述集液管中。

进一步的，所述分配盘底板中心处设有一泪孔。

进一步的，所述降液槽的开口宽度根据液体流通量作相应调整，至少为 4mm。

相对于现有技术，本实用新型所述的自平衡式精馏分布器具有以下优势：

本实用新型的精馏分布器是在原来盘式分布器的基础上改造而成，具有分布效果好，连续强的特点。其结构特点是随着进塔液量的增加，分布器盘的液面上升，分布器的降液管上开有降液槽，随着液面的上升，降液槽的设置使得降液管的液体流通面积加大，流量增加，达到自平衡调节的效果，增强了分布器的均匀性和连续性。

附图说明

构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型实施例所述的自平衡式精馏分布器的结构示意图；

图2为本实用新型实施例所述的降液管和降液槽的结构示意图；

图3为本实用新型实施例所述的降液管和降液槽的俯视结构示意图。

附图标记说明：

1-降液管；2-分配盘；3-进液管；4-集液管；5-降液槽。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。