[实用新型]活动式并能形成交错纹路的基板有效

专利信息
申请号: 201821607671.4 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN209323903U 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 林志滨 申请(专利权)人: 林志滨
主分类号: E04F15/024 分类号: E04F15/024;E04F15/18;E04F15/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张宇园
地址: 中国台湾新北市板桥区华*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 第一区域 基板 第二区域 交错纹路 活动式 板片 纹路 多个基板 方向垂直 相邻排列 相邻设置 支撑脚架 长条状 段差 交错 错位
【权利要求书】:

1.一种活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该基板上包含有:

至少一第一区域,该第一区域呈一条长条状;以及

至少一第二区域,与该第一区域沿一第一方向相邻设置,并与该第一区域沿一与该第一方向垂直的第二方向形成错位,使该第一区域与该第二区域在该第二方向上形成有一段差。

2.根据权利要求1所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该基板进一步是由一板体以及一设置于该板体下方的加强底板所组成,该第一区域与该第二区域设置于该板体上。

3.根据权利要求2所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该板体上还设置有两个该第一区域以及一个该第二区域,两个该第一区域沿该第一方向彼此相互间隔,该第二区域设置在间隔的两个该第一区域之间。

4.根据权利要求2所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该板体上还设置有两个该第一区域以及两个该第二区域,两个该第一区域沿该第一方向彼此相互间隔,两个该第二区域沿该第一方向彼此相互间隔,且两个该第一区域与两个该第二区域沿该第一方向彼此相互间隔交错设置。

5.根据权利要求2所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该板体上还设置有两个该第一区域以及三个该第二区域,两个该第一区域沿该第一方向彼此相互间隔,三个该第二区域沿该第一方向彼此相互间隔,且两个该第一区域与三个该第二区域沿该第一方向彼此相互间隔交错设置。

6.根据权利要求2所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该板体上还设置有三个该第一区域以及三个该第二区域,三个该第一区域沿该第一方向彼此相互间隔,三个该第二区域沿该第一方向彼此相互间隔,且三个该第一区域与三个该第二区域沿该第一方向彼此相互间隔交错设置。

7.根据权利要求1所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该基板进一步是由一个第一板体以及一个与该第一板体相邻设置的第二板体所组成。

8.根据权利要求7所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该第一区域设置在该第一板体上,该第二区域设置在该第二板体上。

9.根据权利要求7所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该第一板体上设置有至少一个该第一区域以及一个该第二区域,该第二板体上同样的设置有一个该第一区域以及一个该第二区域。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的活动式并能形成交错纹路的基板,其特征在于,该基板上还包含有多个贯穿该基板的定位孔。

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